對(duì)于高拋光粉來講，氧化的品位越高，拋光能力越大，使用壽命也增加，特別是硬質(zhì)玻璃長時(shí)間循環(huán)拋光時(shí)（石英、光學(xué)鏡頭等），以使用高品位的拋光粉為宜。低拋光粉一般含有50%左右的CeO2,其余50%為La2O3?SO3,Nd2O3?SO3,Pr6O11?SO3等堿性鹽或LaOF、NdOF、PrOF等堿性氟化物，此類拋光粉特點(diǎn)是成本低及初始拋光能力與高拋光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用于平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高拋光粉低。

稀土拋光粉的粒度及粒度分布對(duì)拋光粉性能有重要影響。

　　對(duì)于一定組分和加工工藝的拋光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數(shù)情況下，顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度。相反地，如果拋光粉顆粒平均粒度較小，則磨削量減少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，標(biāo)準(zhǔn)拋光粉一般有較窄的粒度分布，太細(xì)和太粗的顆粒很少，無大顆粒的拋光粉能拋光出高質(zhì)量的表面，而細(xì)顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。

因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級(jí)稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領(lǐng)域的應(yīng)用逐漸受到重視，產(chǎn)量逐年提高。納米級(jí)稀土拋光粉目前也已經(jīng)問世，隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，其應(yīng)用前景不可預(yù)測(cè)，但目前其市場(chǎng)份額還很小，屬于研發(fā)階段。

原料→干法細(xì)磨→配料→混粉→焙燒→磨細(xì)篩分→低級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備：球磨機(jī)，混料機(jī)，焙燒爐，篩分機(jī)等。主要指標(biāo)：產(chǎn)品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;產(chǎn)品粒度為1.5μm~2.5μm.該產(chǎn)品適合于眼鏡片、電視機(jī)顯象管的高速拋光之用。目前，國內(nèi)生產(chǎn)的低級(jí)系稀土拋光粉的量，約占總產(chǎn)量的90%以上。