脈沖激光沉積簡(jiǎn)介

隨著現(xiàn)代科學(xué)和技術(shù)的發(fā)展，薄膜科學(xué)已成為近年來(lái)迅速發(fā)展的學(xué)科領(lǐng)域之一，是凝聚態(tài)物理學(xué)和材料科學(xué)的一個(gè)重要研究領(lǐng)域。想要了解更多沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司的相關(guān)信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不僅具有豐富的物理內(nèi)涵，而且在微電子、光電子、超導(dǎo)材料等領(lǐng)域具有十分廣泛的應(yīng)用。長(zhǎng)期以來(lái)，人們發(fā)明了多種制膜技術(shù)和方法：真空蒸發(fā)沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點(diǎn)，并在一些領(lǐng)域得到應(yīng)用。但由于其各有局限性，仍然不能滿足薄膜研究的發(fā)展及多種薄膜制備的需要。隨著激光技術(shù)和設(shè)備的發(fā)展，特別是高功率脈沖激光技術(shù)的發(fā)展，脈沖激光沉積（PLD）技術(shù)的特點(diǎn)逐漸被人們認(rèn)識(shí)和接受

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脈沖激光沉積的應(yīng)用領(lǐng)域

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積，以下信息由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供。

脈沖激光沉積技術(shù)適合做的薄膜包括各種多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金屬薄膜，磁性材料等。

應(yīng)用領(lǐng)域：

單晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）

壓電薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）

鐵電薄膜（BaTiO3，KH2PO4）

熱電薄膜（SrTiO3）

金屬和化合物薄膜電極（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）

半導(dǎo)體薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）

高K介質(zhì)薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）

超導(dǎo)薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）

光波導(dǎo)，光學(xué)薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）

超疏水薄膜（PTFE）

紅外探測(cè)薄膜（V2O5，PZT）

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積，是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。Neocera的激光MBE系統(tǒng)可以為用戶提供在壓力達(dá)到500mTorr時(shí)所需的單分子層控制。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨(dú)特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過(guò)控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨(dú)特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。

另外，PLD 是一種“數(shù)字”技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（A°/pulse）。

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司以誠(chéng)信為首 ,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積,公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營(yíng)理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！