潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。凈化工程在設(shè)計(jì)時(shí)，無(wú)論是新建還是重新改造的凈化車間，都一定依照國(guó)家相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范進(jìn)行。我們國(guó)家的空氣分子控制等的技術(shù)正在朝有利的方向發(fā)展，這項(xiàng)技術(shù)原先是由日本發(fā)展起來(lái)的，現(xiàn)在已經(jīng)受到了全世界的關(guān)注和認(rèn)可，在我們國(guó)家，這項(xiàng)技術(shù)已經(jīng)受到了相關(guān)行業(yè)的重視并且投入研發(fā)，相信在不久的未來(lái)，我們國(guó)家的相關(guān)科研人員一定會(huì)在這個(gè)領(lǐng)域取得讓人滿意的成績(jī)，為我們國(guó)家的凈化工程行業(yè)做出貢獻(xiàn)。

現(xiàn)在我們國(guó)家的經(jīng)濟(jì)科技在發(fā)展，同時(shí)帶動(dòng)了社會(huì)各行各業(yè)在告訴發(fā)展中。以凈化工程這個(gè)行業(yè)為例，在目前呈現(xiàn)一片喜人的發(fā)展態(tài)勢(shì)?，F(xiàn)在國(guó)內(nèi)的相關(guān)企業(yè)很多，所以凈化工程企業(yè)之間的競(jìng)爭(zhēng)也很激烈，因?yàn)榭萍嫉陌l(fā)展使得市場(chǎng)對(duì)凈化工程的要求高了起來(lái)，從以前的價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)變成了現(xiàn)在的價(jià)值競(jìng)爭(zhēng)。所以相關(guān)的凈化工程企業(yè)應(yīng)該提高自身的自主研發(fā)能力，不斷的發(fā)展，才能適應(yīng)這個(gè)競(jìng)爭(zhēng)激烈的市場(chǎng)。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級(jí)別高的房間"

1級(jí)：塵埃易使芯片失效或者穩(wěn)定性下降，當(dāng)金屬塵埃落于集成電路上時(shí)，就可能造成短路。當(dāng)空氣中的酸性離子落在電路上時(shí)，可能將電路腐蝕，因此凈化空調(diào)系統(tǒng)對(duì)微電子工業(yè)而言至關(guān)重要。此外，液晶、光纖的生產(chǎn)也需要1級(jí)潔凈度的要求。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。100級(jí)：是常用的凈化工程，除了對(duì)空氣中的塵埃數(shù)有要求，對(duì)空氣中細(xì)菌的濃度也有明確要求。一般用于行業(yè)進(jìn)行無(wú)菌制造，例如制造臨床用于植入體內(nèi)的物品，藥品生產(chǎn)。醫(yī)學(xué)科學(xué)實(shí)驗(yàn)也在此環(huán)境中，包括實(shí)驗(yàn)動(dòng)物飼養(yǎng)環(huán)境。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。