多源有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)?系統(tǒng)全自動(dòng)鈣鈦礦蒸發(fā)鍍膜機(jī)報(bào)價(jià)

多源有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)

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主要用途：

用于納米級(jí)單層及多層金屬膜、 半導(dǎo)體膜等新材料的制備。廣泛應(yīng)用 于大專院校的薄膜材料科研。

系統(tǒng)組成:

由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、 真空測(cè)量、膜厚測(cè)試、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度5.0×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm 

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸厚度3mm的平面樣品；

電極：數(shù)量：4支水冷結(jié)構(gòu)；直徑Φ20㎜

樣品基片:，基片在鍍膜位置實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)。基片的溫度從室溫至600℃

4套擋板系統(tǒng)：基片擋板與源擋板；靶擋板共有3套， 樣品擋板（１套）

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999? 

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)。

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有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀

以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容，沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品，歡迎新老客戶蒞臨。

有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀采用直線式結(jié)構(gòu)，主要由二個(gè)有機(jī)材料生長(zhǎng)室組成，兩個(gè)有機(jī)材料生長(zhǎng)室之間通過閘板閥聯(lián)接，其中一個(gè)生長(zhǎng)室系統(tǒng)預(yù)留與手套箱對(duì)接接口，能夠完成二套獨(dú)立的制備薄膜系統(tǒng)之間互相傳送基片。有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀的有機(jī)材料生長(zhǎng)室主要由真空室腔體組件、有機(jī)蒸發(fā)源、熱阻蒸發(fā)舟、樣品傳遞裝置、樣品臺(tái)、膜厚監(jiān)測(cè)儀、真空室照明裝置、烘烤裝置等組成。前開關(guān)門真空內(nèi)腔，便捷拿取基片、拆換蒸發(fā)舟、加上蒸發(fā)材料及其真空室的平時(shí)維護(hù)保養(yǎng)。