由于鎂合金微弧陶瓷復(fù)合處理技術(shù)繼承了微弧氧化工藝的普遍優(yōu)點(diǎn)，無(wú)需對(duì)工件進(jìn)行復(fù)雜的前處理，大大減少了污水排放，而且處理過(guò)程中無(wú)環(huán)保限制元素加入，實(shí)現(xiàn)了對(duì)環(huán)境的零污染。經(jīng)過(guò)劇烈的微弧氧化處理之后，鋁、鎂、鈦及其合金的表面上會(huì)形成數(shù)十或數(shù)百微米的陶瓷層。另微弧復(fù)合處理周期短，生產(chǎn)及日常維護(hù)成本低廉，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制生產(chǎn)，生產(chǎn)并且極大節(jié)約了人力資源成本，使其規(guī)?；b備制造業(yè)已無(wú)后顧之憂。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝

微弧氧化時(shí)間對(duì)表莫粗糙度的影響

       微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度隨著氧化時(shí)間的延長(zhǎng)近似呈線性增長(zhǎng)。這是由于氧化膜的表面粗糙度與膜層的厚度有直接關(guān)系，而膜層的增厚過(guò)程是在極高的能量條件下陶瓷膜的重復(fù)擊穿過(guò)程。3、溶液酸堿度：酸堿度過(guò)大或過(guò)小，溶解速度都加快，氧化膜生長(zhǎng)速度減慢，所以一般選擇弱堿性溶液。在氧化初期，作用在膜層上的能量較低，產(chǎn)生的熔融物顆粒較少，膜層的表面粗糙度較低；隨著時(shí)間的延長(zhǎng)，膜層表面的能量密度逐漸增大，熔融的氧化產(chǎn)物增多，并通過(guò)微孔噴射到表面。在電解液液淬作用下，氧化物冷卻凝固，并發(fā)生多次擊穿。在這種熔融、凝固、再熔融、再凝固的過(guò)程中，產(chǎn)生的氧化物顆粒黏附在陶瓷層表面的數(shù)量增多，從而增大了膜層表面的粗糙度。另外，在成膜過(guò)程中同時(shí)存在氧化膜的溶解過(guò)程，因此，若時(shí)間足夠長(zhǎng)，膜層在溶解過(guò)程中其表面粗糙度也會(huì)出現(xiàn)小幅度的下降。

     微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

（1）氧化膜具有陶瓷結(jié)構(gòu)特征。

（2）原位生長(zhǎng)。

（3）氧化膜均勻增厚。

（4）無(wú)污染：無(wú)環(huán)保限制元素加入，基本無(wú)廢水排放。

          制備工藝簡(jiǎn)單。

（5）表面硬度高，顯微硬度在400至1500HV；

（6）耐磨損性能與硬質(zhì)合金相當(dāng)；

（7）耐腐蝕性能：鹽霧試驗(yàn)鋁合金1000－2000小時(shí) ；鎂

        合金經(jīng)封孔后耐鹽霧可達(dá)1000小時(shí)以上。

（8）耐熱性能：300℃水中淬火35次未見(jiàn)變化，1300℃

         沖擊5次不脫落、不龜裂。

（9）絕緣性能：膜厚不同,表面電阻達(dá)  109－12Ω

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