ZF450型全自動熱蒸發(fā)鍍膜機

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業(yè)電阻器熱蒸發(fā)鍍膜供貨商，我們?yōu)槟峁┫铝行畔热荨?

選用3～8組蒸發(fā)源可適配金屬材料、有機化合物蒸發(fā)。因其具有背景干擾低的特點，可用來進行納克(ng)級分析，故而成為業(yè)界定性定量分析的必選儀器。廣泛運用于高等院校材料、物理學、有機化學、電子器件、電力能源等有關課程及其科研單位制取高品質作用塑料薄膜、蒸鍍電級等，非常合適OPV/鈣鈦礦/無機物太陽能薄膜充電電池、半導體材料、有機化學EL、OLED顯示信息科學研究與開發(fā)設計行業(yè)。

1.前開關門真空內腔，便捷拿取基片、拆換蒸發(fā)舟、加上蒸發(fā)材料及其真空室的平時維護保養(yǎng)；

2.1200L/s分子泵做為主抽泵，真空限達到5×10-5Pa； 

另可選擇進口磁懸浮分子泵或是低溫泵做為主抽泵，真空限達到 3×10-6Pa；

3. 組水冷器蒸發(fā)電級，可長期平穩(wěn)工作中，適配金屬材料材料與有機化學材料的蒸發(fā)源設計方案，

源間有避免交叉式環(huán)境污染擋板；

4. 真空蒸發(fā)開關電源，恒流電源/恒輸出功率操縱?？杀３忠绘I啟動和終止的自動控制系統作用；

5.較大120mm基片/15～25mm ITO/FTO夾層玻璃25片，可訂制一體化高精密刻蝕掩膜板；

6.基片臺自轉，轉速比0～25rpm持續(xù)可調式；

7. 襯底可挑選加溫或水冷散熱，源基距較大350mm；

8. 選用進口膜厚監(jiān)控器儀在線監(jiān)控和操縱蒸發(fā)速度、膜厚；

9. 可堆積金屬材料（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬材料、化學物質（MoO3, LiF等）

及有機化合物材料， 可擴展堆積單面膜、雙層膜及混和膜；

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300C有機無機聯合蒸發(fā)

主要用途： 　　

用于制備導電薄膜，半導體薄膜，鐵電薄膜，光學薄膜等。 　　

系統組成: 　　

該蒸鍍設計系統主要由真空抽氣及真空測量系統、真空室系統、工件架系統、蒸發(fā)源系統、膜厚測試系統、蒸發(fā)舟擋板系統、烘烤照明系統、水冷卻循環(huán)及報警系統、電控及控制系統、輔助系統等設計。 　　

技術指標： 　　

極限真空度：≤6.7×10 Pa 　　

恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 　　

系統漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 　　

真空室：Ф400 x400mm圓筒型真空室 ， 　　

蒸發(fā)源：1-4個，采用電阻蒸發(fā)舟、蒸發(fā)藍、絞絲、束源爐至下向上蒸發(fā)鍍膜。 　

蒸發(fā)溫度：加熱溫度：室溫～1800℃； 　　

蒸發(fā)舟在距中心100～160mm的圓周上；蒸發(fā)舟可上下升降，調節(jié)幅度0～150mm（樣品中心與坩堝距離150~300mm）； 　

工作架類型及尺寸：樣品托盤直徑Φ300mm，其上可放多個直徑20mm的小樣品；樣品托盤具有自轉功能，轉速在0～20 轉/分鐘，轉速可調；樣品托盤可擺角，角度在0～30度可調； 　　

烘烤溫度：400℃數顯自動熱偶控溫（高溫爐盤，數顯自動熱偶控溫可加熱到700℃） 　　

電阻蒸發(fā)源：電壓5V，10V，功率2.5KW，水冷電極1~4對 　　

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999?

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