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基本原理是在500℃以上高溫條件下,使石墨中的雜質(zhì)(以硅酸鹽礦物為主)與燒jian,即NaOH起反應(yīng),生成水溶性反應(yīng)物,用水浸取反應(yīng)物,即可消除掉部分雜質(zhì),另一部分雜質(zhì),如鐵的氧化物,堿熔后用HCl中和,生成可溶子水的氯化鐵,用水洗滌即可除去。
上述工藝流程中,NaOH濃度為50%左右,與石墨按1:0.8的比例混合,即生產(chǎn)1 t高碳石墨消耗NaOH0.4t左右。HCl的加入量約為石墨的30%。燃料用煤約為0.6-0.7t。堿熔法所用設(shè)備主要有錨式攪拌機(jī),熔融爐、螺旋漿攪拌機(jī)、V型洗滌槽等?;厥章?5—90%,投資15—20萬(wàn)元。這種,工藝雖較先進(jìn),但也存在耗水量大、石墨流失多,生產(chǎn)率較低,耗堿量大,且排放的廢液污染環(huán)境等不足。
石墨舟推舟系統(tǒng):石墨舟推舟系統(tǒng)采用軟著陸的方式,即將石墨舟放到反應(yīng)管內(nèi)部后,石墨舟推舟機(jī)構(gòu)將退出,自動(dòng)門(mén)關(guān)上。載片舟是經(jīng)特殊設(shè)計(jì),在X軸、Y軸、Z軸三個(gè)方向可微調(diào),再經(jīng)精加工而成。它直接影響到電場(chǎng)的分布、等離子的產(chǎn)生、氣流的走向、膜的品質(zhì)。成膜壓力甚至氣體的流量都與此結(jié)構(gòu)有關(guān),所以推舟系統(tǒng)是本設(shè)備的核心部件。 管式PECVD系統(tǒng):即使用像擴(kuò)散爐管一樣的石英管作為沉積腔室,使用電阻爐作為加熱體,將一個(gè)可以放置多片硅片的石墨舟插進(jìn)石英管中進(jìn)行沉積。