影響微弧氧化的因素

（1）微弧氧化對鋁材要求不高，不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金，只要閥金屬比例占到40%以上，均可用于微弧氧化，且能得到理想膜層。

（2）表面狀態(tài)一般不需要經(jīng)過拋光處理，對于粗糙的表面，經(jīng)過微弧氧化，可修復(fù)的平整光滑；對于粗糙度低（即光滑）的表面，則會增加粗糙度。

工件材質(zhì)及表面狀態(tài)對微弧氧化會有一定的影響，所以一定要引起注意。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)

微弧氧化技術(shù)受哪些因素影響

1、時間對微弧氧化的影響微弧氧化時間一般控制在10～60min。氧化時間越長，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。

2、陰極材料陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。

3、后處理對微弧氧化的影響微弧氧化過后，工件可不經(jīng)過任何處理直接使用，也可進行封閉，電泳，拋光等后續(xù)處理。

微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)

 微弧氧化膜層性能檢測

       微弧氧化膜層性能檢測儀器膜層的性能檢測包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。采用德禍流測厚儀對氧化陶瓷膜的厚度進行檢測；微弧氧化手電解質(zhì)溶液及其組分的影響微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術(shù)關(guān)鍵。微弧氧化采用利用顯微硬度儀測量膜層表面顯微硬度曰利用環(huán)境掃描電子顯微鏡對微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微觀結(jié)構(gòu)進行觀察。微弧氧化設(shè)備、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

        微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜，與基體呈冶金結(jié)合，膜層致密，具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達到600-1500HV(膜層厚度20-50μm），耐磨性能優(yōu)于硬質(zhì)陽極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗水平可達2000小時以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性，耐500V以上的高壓沖擊，且有效防止電偶腐蝕；機械、化工工業(yè)中的各種鋁基模具，各種鋁罐的內(nèi)壁，飛機制造中的各種鋁基零部件如貨倉地板，滾棒，導(dǎo)軌等。氧化膜還具有良好的隔熱特性，是鋁合金活塞的首要選擇。