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低電壓微弧氧化技術常用指南

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發(fā)布時間:2020-10-14 08:52  






微弧氧化技術特點

(1)大幅度地提高了材料的表面硬度,顯微硬度在1000至2000HV,高可達3000HV,可與硬質合金相媲美,大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度;

(2)良好的耐磨損性能;

(3)反應在常溫下進行,操作方便,易于掌握。

(4)基體原位生長陶瓷膜,結合牢固,陶瓷膜致密均勻。微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源


溫度對微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化電源


微弧氧化技術受哪些因素影響

1、時間對微弧氧化的影響微弧氧化時間一般控制在10~60min。氧化時間越長,膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。

2、陰極材料陰極材料可選用不銹鋼,碳鋼,鎳等,可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。

3、后處理對微弧氧化的影響微弧氧化過后,工件可不經(jīng)過任何處理直接使用,也可進行封閉,電泳,拋光等后續(xù)處理。

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