微弧氧化

       在微弧氧化過程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時(shí)存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜,至今還沒有一個(gè)合理的模型能全描述陶瓷層的形成。微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽(yáng)極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，克服了硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化槽液微弧氧化主要針對(duì)鋁、鎂、鈦、等閥金屬（閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬）。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。

        微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜，與基體呈冶金結(jié)合，膜層致密，具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達(dá)到600-1500HV(膜層厚度20-50μm），耐磨性能優(yōu)于硬質(zhì)陽(yáng)極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗(yàn)水平可達(dá)2000小時(shí)以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性，耐500V以上的高壓沖擊，且有效防止電偶腐蝕；氧化膜還具有良好的隔熱特性，是鋁合金活塞的首要選擇。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化圖片、微弧氧化技術(shù)設(shè)備。

       微弧氧化處理后形成陶瓷層表面顏色只有黑白兩色。嚴(yán)重制約了而上釉工藝可以在金屬表面涂上色彩并經(jīng)過高溫?zé)Y(jié)，形成耐磨，結(jié)合力好的表面處理。由于微弧氧化是在陽(yáng)極氧化膜被電ji穿的基礎(chǔ)上進(jìn)行的，所以在探討微弧氧化機(jī)理時(shí)我們要結(jié)合電ji穿理論的研究和發(fā)展，從而闡述微弧氧化基本原理。但是普通的低溫釉工藝，燒結(jié)溫度高達(dá)900度，鋁鎂金屬的熔點(diǎn)是600多度，因此嚴(yán)重制約了微弧氧化后處理的發(fā)展，對(duì)終端消費(fèi)品外殼的客戶來說，彩色是必備的選擇。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化設(shè)備