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發(fā)布時(shí)間:2020-10-31 06:04  






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簡述

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面,它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。

真空鍍膜特點(diǎn)

編輯鍍鋁薄膜與鋁箔復(fù)合材料相比具有以下特點(diǎn):(1)大大減少了用鋁量,節(jié)省了能源和材料,降低了成本,復(fù)合用鋁箔厚度多為7~9pm,而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0.05n左右,其耗鋁量約為鋁箔的1/140~1/180,且生產(chǎn)速度可高達(dá)450m/min。(2)具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性,很少出現(xiàn)和裂口,無揉曲龜裂現(xiàn)象,因此對(duì)氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。

真空鍍膜開發(fā)成功

據(jù)估計(jì),間斷式批量生產(chǎn)的真空鍍金屬工藝的生產(chǎn)率僅是連續(xù)生產(chǎn)式工藝的50%。更有甚者,在每爐生產(chǎn)后,在再行生產(chǎn)第二爐前要投人大量而艱辛的勞動(dòng)以去除聚集于爐中的無效金屬蒸汽類廢料以及清除鍍金屬爐的內(nèi)部,使之清潔干凈。此種棘手問題,隨著蒸鍍金屬工藝的發(fā)明、采用而俱來已有多年。因此.如何使蒸鍍過程一直處于真空狀態(tài)中.并能連續(xù)進(jìn)行生產(chǎn),這是國外從事表面蒸鍍金屬工藝和設(shè)備的科技人員們所孜孜以求企盼解決的目標(biāo)。


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