物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積的區(qū)別

化學(xué)氣相沉積過程中有化學(xué)反應(yīng)，多種材料相互反應(yīng)，生成新的的材料。

物理氣相沉積中沒有化學(xué)反應(yīng)，材料只是形態(tài)有改變。

物理氣相沉積技術(shù)工藝過程簡單，對環(huán)境改善，無污染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結(jié)合力強(qiáng)。

化學(xué)雜質(zhì)難以去除。優(yōu)點(diǎn)可造金屬膜、非金屬膜,又可按要求制造多成分的合金膜,成膜速度快,膜的繞射性好

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化學(xué)氣相沉積的特點(diǎn)有哪些？

?  高溫石英管反應(yīng)器設(shè)計(jì)

?  溫度范圍：室溫到1100度

?  多路氣體準(zhǔn)確控制

?  標(biāo)準(zhǔn)氣壓計(jì)

?  易于操作

?  可配機(jī)械泵實(shí)現(xiàn)低壓TCVD

?  可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

?  液體前驅(qū)體噴頭

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司本著多年化學(xué)氣相沉積行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，專注化學(xué)氣相沉積研發(fā)定制與生產(chǎn)，先進(jìn)的化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù)，建立了嚴(yán)格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話！??！

ICP刻蝕機(jī)的操作及判斷

1. 確認(rèn)萬用表工作正常，量程置于200mV。

2.冷探針連接電壓表的正電極，熱探針與電壓表的負(fù)極相連。

3.用冷、熱探針接觸硅片一個(gè)邊沿不相連的兩個(gè)點(diǎn)，電壓表顯示這兩點(diǎn)間的電壓為正值，說明導(dǎo)電類型為P 型，刻蝕合格。相同的方法檢測另外三個(gè)邊沿的導(dǎo)電類型是否為P型。

4.如果經(jīng)過檢驗(yàn)，任何一個(gè)邊沿沒有刻蝕合格，則這一批硅片需要重新裝片，進(jìn)行刻蝕。

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司以誠信為首 ,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售ICP刻蝕機(jī),公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！