應(yīng)用領(lǐng)域

Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀可用于地質(zhì)、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業(yè)、農(nóng)業(yè)、食品商檢、水質(zhì)等各領(lǐng)域及學(xué)科的樣品分析?？梢钥焖?、準確地檢測從微量到常量約70種元素。

售后服務(wù)保障

售后服務(wù)工程師出自生產(chǎn)線、技術(shù)力量無法比較的

多年的國際合作經(jīng)驗打造了完善的售后服務(wù)體系

自主知識產(chǎn)權(quán)產(chǎn)品使儀器的運行成本特別是備件成本大幅降低

鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)

1. 光學(xué)系統(tǒng)：中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng)，焦距400mm

2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學(xué)分辨率：0.007nm（200nm處）

3. 光柵規(guī)格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器，小巧有效

5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限

6. 自動匹配調(diào)節(jié)

7. 全組裝式炬管，降低了維護成本

8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能

9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好：重復(fù)性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩(wěn)定性：RSD

≤2.0%（大于3小時）

Plasma 2000 技術(shù)特點

1.  優(yōu)異的光學(xué)系統(tǒng)

2.  固態(tài)有效射頻發(fā)生器，體積更加小巧

3.  流程自動化，狀態(tài)監(jiān)控及自動保護

4.  科研級檢測器，極高的紫外量子化效率

5.  強大分析譜線

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口多方法

8.  編輯功能強大

9.  智能譜圖標定

10. 智能干擾矯正

想了解更多產(chǎn)品信息您可撥打公司熱線進行咨詢！鋼研納克竭誠為您服務(wù)！

由鋼研納克承擔(dān)的國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進展。本專項開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目前二維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產(chǎn)品樣機將于年內(nèi)完成；ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調(diào)試，采集到正確的譜圖，這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設(shè)計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關(guān)鍵、難點技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)原理攻克。為高質(zhì)量、按期完成項目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務(wù)奠定了堅實的基礎(chǔ)。