真空鍍膜可以使原料具有許多新的、的物理和分析化學(xué)特征。20世紀(jì)70年代，物品表面表層鍍膜的方法重要包括電鍍和化學(xué)鍍鎳。前者根據(jù)插線，將鋰電池電解液電解水、電解水的等離子體涂抹在另一個(gè)電極的基本表面，因此這樣表面的表層鍍膜的規(guī)范，基本上盡量是電的良導(dǎo)體，塑料薄膜的厚度也無(wú)法控制。

真空鍍膜-五金工具真空鍍膜的優(yōu)點(diǎn)

五金工具真空鍍膜能發(fā)生很硬的陶瓷涂層，這有利于進(jìn)步耐磨性；涂層均勻共同，且孔隙度小，涂層結(jié)合強(qiáng)度高（大于70MPa)；涂層外表粗糙度小，可不需加工。

真空鍍膜--磁控濺射鍍膜技能

一、磁控濺射鍍膜－濺射原理：

1.使chamber到達(dá)真空條件，一般控制在(2~5)E-5torr

2.chamber內(nèi)通入Ar，并啟動(dòng)DC power

3.Ar發(fā)作電離：Ar ? Ar ＋ e-

4.在電場(chǎng)效果下，（電子）會(huì)加快飛向anode（陽(yáng)極）

5.在電場(chǎng)效果下，Ar 會(huì)加快飛向陰極的target（靶材），target粒子及二次電子被擊出，前者到達(dá)substrate（基片）表面進(jìn)行薄膜生長(zhǎng)，后者被加快至陰極途中促成更多的電離。

6.筆直方向分布的磁力線將電子約束在靶材表面附近，延長(zhǎng)其在等離子體中的運(yùn)動(dòng)軌道，進(jìn)步它參與氣體分子磕碰和電離過(guò)程的幾率的效果。

改善思路：充分采用修正板的功能。改善對(duì)策：加強(qiáng)傘片管理，特別是擺放時(shí)的管理，防止因擺放不當(dāng)而變形。改善膜料狀況，特別是電子槍蒸鍍升華、半升華材料時(shí)，不能把膜料打塌，挖坑。能夠自動(dòng)預(yù)熔的膜料，盡量自動(dòng)預(yù)熔，減少人為因素影響。修正板對(duì)物理膜厚的修正很有效，但對(duì)折射率的修正是力不從心的，所以完全靠修正板解決分光均勻性，是很困難的。如果一個(gè)修正板要對(duì)應(yīng)二把電子槍?zhuān)ㄕ舭l(fā)源）、以及多種膜料，就會(huì)有較大的困難。

請(qǐng)問(wèn)什么是PVD鍍膜？什么是PVD鍍膜機(jī)？PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對(duì)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是較快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。