PVD真空鍍層按照膜層應用來分類可分為裝飾膜層和硬質膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕；硬質膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命。

除油—去污—流水沖洗—去離子水沖洗—脫水

過清洗線后將工件掛到PVD治具上，放入烤箱烘烤干燥

薄膜的制備方法很多，主要有氣相法和液相法，其中氣相法又分為物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）兩大類。

電弧蒸發(fā)鍍膜

在高真空下通過兩導電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電，利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。

優(yōu)點薄膜純度高造價低適用于具有一定導電性的難熔金屬、石墨等

缺點

    會飛濺出微米級的靶材料顆粒，影響薄膜質量

利用高頻電磁場感應加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術。

離子鍍時，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內(nèi)的任何地方。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內(nèi)的任何地方。