不同應用時輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學鍍膜方法。對于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等；對于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對某波長增反射、對另一波長增透射的特殊膜，如激光倍頻技術中的分光膜等。光學鍍膜基本原理光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。 次數用完API KEY 超過次數限制

它可以制備各種單金屬膜（例如鋁，鈦，鋯，鉻等），氮化物膜（TiN，ZrN，CrN，TiAlN）和碳化物膜（TiC，TiCN）以及氧化物膜（例如TiO）等）。PVD涂膜層的厚度—PVD涂膜層的厚度為微米級，且厚度較薄，一般為0.3μm?5μm。裝飾涂膜層的厚度一般為0.3μm?1μm，因此幾乎不影響原始工件。在尺寸情況下，改善了工件表面的各種理化性能，以后不需要進一步加工電鍍?？梢酝ㄟ^PVD涂層鍍膜的顏色類型-目前可以通過PVD涂層鍍膜的顏色為深金黃色，淺金黃色，棕色，青銅色，灰色，黑色，灰黑色，七種通過控制涂層過程中的相關參數，可以控制電鍍顏色，涂層結束后，可使用相關儀器測量顏色，以量化顏色，以確定電鍍的顏色是否符合要求。 次數用完API KEY 超過次數限制

隨著高科技及新興工業(yè)發(fā)展，物理氣相沉積技術出現了不少新的先進的亮點，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術，大型矩形長弧靶和濺射靶，非平衡磁控濺射靶，孿生靶技術，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術，條狀纖維織物卷繞鍍層技術等，使用的鍍層成套設備，向計算機全自動，大型化工業(yè)規(guī)模方向發(fā)展。第二節(jié)真空蒸鍍(一)真空蒸鍍原理(1)真空蒸鍍是在真空條件下，將鍍料加熱并蒸發(fā)，使大量的原子、分子氣化并離開液體鍍料或離開固體鍍料表面(升華)。 次數用完API KEY 超過次數限制

有70多種元素、50多種無機化合物材料和多種合金材料可供選擇。濺射鍍sputteringdepsitsnn用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材，使靶材表面部分原子逸出的現象r.若把零件放在靶材附近酌適當位置上，則從靶材飛出的原子便會沉積到零件表面而形成鍍層。它特另}l適用于高熔點金屬、合金、半導體和各類化合物的鍍覆二主要用于制備電子元件上所需的各種鍍層。也可用來鍍覆氮化欽仿金鍍層和在切削刀具上鍍覆氮化欽、碳化欽等硬質鍍層，以提高其使用壽命和切削功能。 次數用完API KEY 超過次數限制