PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：1．膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng)，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類廣泛5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認(rèn)證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍?nèi)箢?。真空蒸鍍?cè)谡婵諚l件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。濺射鍍膜利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離，其正離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。離子鍍膜在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離子化，在氣體離子或蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物蒸鍍?cè)诠ぜ稀?/p>

②氮碳化鈦涂層（TiCN）：TiCN涂層是在TiN的基礎(chǔ)上添加碳元素，以提高涂層的硬度和低的摩擦系數(shù)用途：高速gang刀具，沖壓模具，成型模具。③氮鋁鈦（TiAlN）、氮鈦鋁AlTiN：俗稱：中鋁（Al:Ti=50:50）、高鋁（Al:Ti=67：33）以上，TiAlN/AlTiN涂層在加工過(guò)程中形成的氧化鋁涂層可以有效提高加工工具的高溫加工壽命，AlTiN涂層的抗高溫氧化比TiAlN要高100度左右。用途：硬質(zhì)合金工具（加工材料硬度低于HRC45時(shí)建議用TiAlN,加工材料硬度高于HRC45時(shí)建議使用AlTiN涂層），薄壁件沖壓模具(TiAlN)，壓鑄模具（AlTiN）。

由于該工藝過(guò)程具有炸性質(zhì)，并可形成液化金屬的液滴，因此可能導(dǎo)致涂層表面粗糙。引入反應(yīng)氣體從而形成化合物2)濺射（電離度低）：濺射是用高能粒子轟擊靶材而使原子從固體靶材上彈出的過(guò)程。在薄膜涂層中，這是通過(guò)加速朝向固體靶材的ya離子，使其在靶材上擊出金屬原子并聚集在工件上來(lái)實(shí)現(xiàn)的。通過(guò)在真空腔室中引入氣體而形成如金屬氮化物等化合物。國(guó)內(nèi)外技術(shù)對(duì)比分析：①整體差距：調(diào)查資料顯示：目前，國(guó)外PVD涂層行業(yè)的生產(chǎn)設(shè)備一般技術(shù)力量雄厚，工藝裝備精良，檢測(cè)手段齊全，并擁有全國(guó)先進(jìn)的大噸位及配套生產(chǎn)設(shè)備，具有較強(qiáng)的生產(chǎn)能力。