PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。PVD鍍膜膜層的厚度：PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今zui先進(jìn)的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

②氮碳化鈦涂層（TiCN）：TiCN涂層是在TiN的基礎(chǔ)上添加碳元素，以提高涂層的硬度和低的摩擦系數(shù)用途：高速gang刀具，沖壓模具，成型模具。③氮鋁鈦（TiAlN）、氮鈦鋁AlTiN：俗稱：中鋁（Al:Ti=50:50）、高鋁（Al:Ti=67：33）以上，TiAlN/AlTiN涂層在加工過程中形成的氧化鋁涂層可以有效提高加工工具的高溫加工壽命，AlTiN涂層的抗高溫氧化比TiAlN要高100度左右。用途：硬質(zhì)合金工具（加工材料硬度低于HRC45時(shí)建議用TiAlN,加工材料硬度高于HRC45時(shí)建議使用AlTiN涂層），薄壁件沖壓模具(TiAlN)，壓鑄模具（AlTiN）。

1.熱鍍純鋅鍍層(Z)hot‐dip zinc coating

熔融池金屬液體中的鋅含量應(yīng)不小于99%。

熱鍍純鋅工藝可以生成不同尺寸的鋅花，鋅花影響表面感官，但不影響耐蝕性。

鍍鋅厚度是怎么計(jì)算出來的呢？鋅的密度是7.14 g/cm^3，折算成鍍鋅厚度與每平米重量的關(guān)系為：1μm≈7.14g/m2，比如單面鋅量厚度是50 μm（微米），即單面鍍鋅重量為50×7.14=357 g/m^2。