在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD真空鍍層按照膜層應用來分類可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕；硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命。

電子束蒸發(fā)鍍膜

利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā)，在基片表面凝結成膜的技術。電子束熱源的能量密度可達104-109w/cm2，可達到3000℃以上，可蒸發(fā)高熔點的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。

電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環(huán)行)，電子束自源發(fā)出，用磁場線圈使電子束聚焦和偏轉，對膜料進行轟擊和加熱。

在靶材和襯底之間加上一個直流高壓，極板間的氣體（一般為Ar2）電離，高速帶電離子轟擊靶材表面的濺射鍍膜技術。要保持自持放電，在兩極板間距為數(shù)厘米的正常濺射間距下，放電氣壓一般高達10帕，這對濺射效率和薄膜質(zhì)量都是不利的。鍍鈦不僅能使工具豐富多彩，也是工具達到一定硬度的效果，采用PVD技術，使工具具有優(yōu)異的性能。因此，直流濺射多采用非自持放電，也就是加入熱電子發(fā)射極和輔助陽極的四極濺射，可使濺射在10-1～10-2帕的低氣壓下進行。