反滲透系統(tǒng)應(yīng)多久清洗一次

反滲透系統(tǒng)應(yīng)多久清洗一次? 一般情況下，當標準化通量下降10～15%時，或系統(tǒng)脫鹽率下降10～15%，或操作壓力及段間壓差升高10～15%，應(yīng)清洗RO系統(tǒng)。 清洗頻度與系統(tǒng)預(yù)處理程度有直接的關(guān)系，當SDI15<3時，清洗頻度可能為每年4次;當SDI15在5左右時，清洗頻度可能要加倍但清洗頻度取決于每一個項目現(xiàn)場的實際情況。

怎樣從水中脫除硅? 水中硅以兩種形態(tài)存在，活性硅(單體硅)和膠體硅(多元硅)：膠體硅沒有離子的特征，但尺度相對較大，膠體硅能被精細的物理過濾過程所截留，如反滲透，也可以通過凝聚技術(shù)降低水中的含量，如混凝澄清池，但是那些需要依靠離子電荷特征的分離技術(shù)，如離子交換樹脂和連續(xù)電去離子過程(CDI)，對脫除膠體硅效果十分有限。 活性硅的尺寸比膠體硅小得多，這樣大多數(shù)的物理過濾技術(shù)如混凝澄清、過濾和氣浮等均無法脫除活性硅，能夠有效脫除活性硅的過程是反滲透、離子交換和連續(xù)電去離子過程。

RO膜元件和IX離子交換樹脂的進水要求有哪些? 理論上講，進入RO和IX系統(tǒng)應(yīng)不含有如下雜質(zhì)：懸浮物、膠體、硫酸鈣、藻類、細菌、氧化劑，如余氯等、油或脂類物質(zhì)(必須低于儀器的檢測下限)、有機物和鐵-有機物的絡(luò)合物、鐵、銅、鋁腐蝕產(chǎn)物等金屬氧化物、進水水質(zhì)對RO元件和IX樹脂的壽命及性能將產(chǎn)生巨大的影響。