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滁州鍍金真空電鍍機(jī)來電咨詢「至成真空科技」

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發(fā)布時(shí)間:2021-10-19 13:50  









真空PVD鍍膜基本步驟


1、前處理工藝:褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。

2、鍍膜工藝:抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。

3、后處理工藝:清洗:確保鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔,越新鮮的表面,越能保證鍍膜質(zhì)量。抽真空:將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走。加熱烘烤:爐體和工件同時(shí)加熱,加速殘余氣體的釋放。壓升率測試:測試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗:去除工件表面的雜志,露出新鮮表面。鍍膜:沉積膜層。冷卻:避免工件氧化變色。



真空鍍膜機(jī)使用前要檢查什么


1、主機(jī)齒輪箱、牽引減速箱應(yīng)該時(shí)常加油,更換齒輪油。

2、新機(jī)請(qǐng)?jiān)谑褂?0天左右更換新齒輪油,以確保各轉(zhuǎn)動(dòng)部位正常運(yùn)轉(zhuǎn)。

3、注意加油,防止卡住和過熱損壞。

4、還應(yīng)檢查各連接部位的固緊情況,防止羅栓松動(dòng)。

5、泡管中的壓縮空氣應(yīng)保持適量。

6、啟動(dòng)主電機(jī)時(shí),應(yīng)先啟動(dòng)電機(jī)后慢慢加速;關(guān)閉主電機(jī),應(yīng)先減速后再關(guān)機(jī)。

至成真空科技有限至成真空科技,在安裝車燈鍍膜機(jī)的時(shí)候應(yīng)該注意調(diào)整好擠出機(jī)機(jī)頭中心線和牽引輥中心保持水平垂直,收卷時(shí)由于收卷外徑逐漸增大車燈鍍膜機(jī)請(qǐng)注意牽引速度與收卷速度的配合,請(qǐng)及時(shí)調(diào)整。主機(jī)開啟后,密切注意主機(jī)運(yùn)行情況。



真空卷繞鍍膜機(jī)鍍層之間的結(jié)合力


真空卷繞鍍膜機(jī)鍍層之間的結(jié)合力主要與以下因素有關(guān):

1、真空鍍膜設(shè)備底鍍層的種類與性質(zhì)。一般認(rèn)為,銅層與多種金屬都具有好的結(jié)合力。含鐵量高達(dá)30%左右的高鐵鎳鐵合金,在酸銅液中也會(huì)產(chǎn)生置換銅層,故不能用于光亮酸銅打底。

2、真空鍍膜機(jī)底鍍層的光亮性。真空鍍膜鍍層越是光亮,與其他鍍層的附著力可能越差。

3、真空鍍膜設(shè)備底鍍層表面的清潔性。典型的是鍍硫酸鹽光亮酸銅后,往往形成有機(jī)膜鈍化層,應(yīng)作脫膜處理。不要輕信聲稱鍍后無需除膜的酸銅光亮劑的宣傳,而在工藝流程設(shè)計(jì)時(shí)不考慮除膜工序。

因?yàn)榧词剐屡湟簳r(shí)可以不脫膜,隨著亮銅液中有機(jī)雜質(zhì)的積累或加入的光亮劑比例失調(diào)時(shí),也會(huì)產(chǎn)生憎水的有機(jī)膜層。眾所周知,聚乙二醇幾乎是所有酸銅光亮劑中不可缺少的組分,而鍍層中聚乙二醇的夾附量越大,越容易生成憎水膜層。


4、真空鍍膜機(jī)底鍍層的鈍化性。越易鈍化的鍍層,其上鍍層的結(jié)合力越差。鎳是易鈍化金屬,鍍鎳過程中斷電對(duì)間稍長,鎳鍍層在鍍鎳液中會(huì)發(fā)生化學(xué)鈍化;

若未能有效避免雙性電極現(xiàn)象(詳見第四講);則作為陽極部分的工件局部更會(huì)發(fā)生嚴(yán)重的電化學(xué)鈍化,在鍍多縣鎳時(shí)特別應(yīng)注意。鉻比鎳更易鈍化,所以鉻上鍍鉻必須有良好的活化。

鉻上鍍鉻的情況也不少,如:裝飾性套鉻一次深鍍能力差時(shí)作二次套鉻;為兼顧抗蝕性與耐磨性,在乳白鉻(基本無裂紋)上鍍硬鉻;鉬及鉬合金電鍍要求用鍍鉻打底等。



濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝(磁控濺鍍)


濺鍍機(jī)由真空室,排氣系統(tǒng),濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射槍(sputtergun)磁控濺射槍分為平面型和圓柱型,其中平面型分為矩型和圓型,靶材料利用率30-40%,圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為:直流(DC)、射頻(RF)、脈沖(pulse),直流:800-1000V(Max)導(dǎo)體用,須可災(zāi)弧。

射頻:13.56MHZ,非導(dǎo)體用。脈沖:泛用,新發(fā)展出濺鍍時(shí)須控制參數(shù)有濺射電流,電壓或功率,以及濺鍍壓力(5×10-1—1.0Pa),若各參數(shù)皆穩(wěn)定,膜厚可以鍍膜時(shí)間估計(jì)出來。

靶材的選擇與處理十分重要,純度要佳,質(zhì)地均勻,沒有氣泡、缺陷,表面應(yīng)平整光潔。對(duì)于直接冷卻靶,須注意其在濺射后靶材變薄,有可能破損特別是非金屬靶。一般靶材薄處不可小于原靶厚之一半或5mm。


磁控濺鍍操作方式和一般蒸鍍相似,先將真空抽至1×10-2Pa,再通入Ar氣(Ar)離子轟擊靶材,在5×10-1—1.0Pa的壓力下進(jìn)行濺鍍其間須注意電流、電壓及壓力。開始時(shí)濺鍍?nèi)粲写蚧?,可緩慢調(diào)升電壓,待穩(wěn)定放電后再關(guān)shutter.在這個(gè)過程中,離子化的惰性氣體(Ar)清洗和暴露該塑膠基材表面上數(shù)個(gè)毛細(xì)微空,并通過該電子與自塑膠基材表面被清潔而產(chǎn)生一自由基,并維持真空狀態(tài)下施以濺鍍形成表面締結(jié)構(gòu),使表面締結(jié)構(gòu)與自由基產(chǎn)生填補(bǔ)和高附著性的化學(xué)性和物理性的結(jié)合狀態(tài),以在表面外穩(wěn)固地形成薄膜.其中,薄膜是先通過把表面造物大致地填滿該塑膠毛細(xì)微孔后并作鏈接而形成.



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