濕式研磨與干法研磨的區(qū)別

濕法研磨與干法研磨的區(qū)別 干法研磨指進行研磨作業(yè)時物料的含水量不超過4%，而濕法研磨則是將原料懸浮于載體液流中進行研磨，適當添加分散劑等助劑幫助研磨進行。濕法研磨機時物料含水量超過50%時，可克服粉塵飛揚問題。在食品加工上，研磨的物料經(jīng)常作為浸出的預(yù)備操作，使組分易于溶出，故頗適于濕式研磨法。但濕法操作一般消耗能量較干法操作的大，同時設(shè)備的磨損也較嚴重。機械干法研磨較難獲取亞微米級別的粉體，化學制粉成本高，因此濕法研磨成為制備超細粉體的一個重要手段。從實際應(yīng)用來看，這兩者之間并沒有的優(yōu)劣之分，要根據(jù)實際的產(chǎn)品特點及經(jīng)濟效益來選取適當?shù)奶幚矸椒ā?/p>

研磨機配用拋光盤的技巧

研磨機配用拋光盤的技巧 研磨機分為單面和雙面，主要用于LED藍寶石襯底、光學玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。在拋光過程中少不了一種耗材，那便是拋光盤，拋光盤關(guān)系到工件表面的精度。因此，選用拋光盤有一定的技巧，下面為大家小結(jié)3點。 首先不能使用廢棄且已經(jīng)磨損變形的拋光盤，一些小企業(yè)為了節(jié)省成本就會這樣做。其次盡量使用耐磨性能好的拋光盤，拋光盤的材質(zhì)有多種，不同材質(zhì)的耐磨性能各不相同，選擇材質(zhì)較好的拋光盤，在耐磨損性能方面也有一定的保證。 后，如果有耐磨性能很好但是稍微出現(xiàn)了磨損，建議采用人工修整拋光盤的平面，這樣可避免耗材的浪費。

研磨機變速控制方法的三個階段

研磨機變速控制方法的三個階段 研磨機是用于超精密研磨加工的設(shè)備，在提高我國的研磨技術(shù)具有重要的發(fā)展意義。像東研研磨機主要分兩大類，一類是單面研磨拋光機，另一類是雙面研磨拋光機，這兩者的差別在于單面和雙面的工作性能。研磨機的速度控制是加工過程中不可忽視的操作細節(jié)，主要分為三個階段，下面我們就對這三個階段的變速控制進行簡單的了解。 研磨加工的三個階段分別是開始階段、正式階段以及結(jié)束階段。開始階段的變速控制特點是磨具升速旋轉(zhuǎn)，正式階段的變速控制特點是恒速旋轉(zhuǎn)，結(jié)束階段便是磨具降速旋轉(zhuǎn)。在研磨加工開始階段，人為控制磨具轉(zhuǎn)速的加速度從零由慢到快地增大，當磨具轉(zhuǎn)速升到正式研磨速度的一半時，加速度的變化出現(xiàn)一個拐點，控制磨具轉(zhuǎn)速的加速度由值由快到慢地減小，直到磨具轉(zhuǎn)速達到正式的研磨速度，磨具轉(zhuǎn)速的加速度降為零。