影響光學(xué)玻璃清洗的因素有哪些呢？下面具體看看：

A，清洗工藝的技術(shù)關(guān)鍵：光學(xué)玻璃經(jīng)過清洗后能否達(dá)到表面不留任何油污，污跡，表面光滑，水膜完好！

B，影響清洗后光學(xué)玻璃質(zhì)量的因素及相應(yīng)的解決方法：

（1）玻璃本身的質(zhì)量螺旋送料機(jī)及被污染的情況，主要為：表面有霉點(diǎn)，氣泡，劃傷等，在機(jī)械處理中，如：研磨，搽試，測(cè)應(yīng)力時(shí)，人為導(dǎo)致的污染情況不一；

（2）清洗劑的選擇其能動(dòng)及溫度，水質(zhì)；我們采用非ODS的水類堿性清洗劑，主要由 水，堿，表面活性劑，防銹材料組成，化學(xué)式C3H8，具有側(cè)鏈的環(huán)狀烯烴，具有較強(qiáng)的 溶油能力；特點(diǎn)：低毒，不燃，清洗成本低等特點(diǎn)；

（3）溶液的濃度直接影響清洗度的大?。?通常清洗液的PH值一般在8.5-12之間，若PH值大于箱式變壓站10，側(cè)表面活性物質(zhì)作用要削弱，當(dāng)PH 值大于12時(shí)，側(cè)清潔度下降。

（4）溶液溫度及浸泡時(shí)間也同高溫循環(huán)風(fēng)機(jī)樣影響去污效率； 當(dāng)溫度上升，溶液的反應(yīng)速度也上升，污染物的粘度下降，便于污染物脫離，但溶液的穩(wěn)定 度下降。若溫度過高，會(huì)在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。

（5）在清洗過程中，還應(yīng)注意必須使用純水或去離子水，若使用自來水等硬水側(cè)很難除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na離子等雜質(zhì)會(huì)在烘干后的玻璃表面形成一層白色霧狀膜，污染玻璃；

（6）光學(xué)玻璃經(jīng)清洗后需漂洗，漂洗后的清潔度，除與清潔劑的漂洗性和清洗液中的清潔劑濃度有關(guān)外，還與漂洗工序的多少，漂洗供水量的大小，溫度及循環(huán)使用的純水是否干凈有關(guān)；

（7）清洗環(huán)境的清潔程度；

（8）清洗后的干燥工藝及溫度： 應(yīng)盡量保證玻璃垂直，可在玻璃下墊陶瓷柱，避免烘干后玻璃下沿有水印；烘箱溫度控制在70度左右，時(shí)間在20分鐘左右。若溫度過高，會(huì)在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。

光學(xué)玻璃的機(jī)械性能關(guān)于密度及硬度的相關(guān)介紹

　　光學(xué)玻璃的機(jī)械性能包含：光學(xué)玻璃的密度；光學(xué)玻璃的硬度；光學(xué)玻璃的脆性；光學(xué)玻璃的抗張強(qiáng)度，抗壓強(qiáng)度；光學(xué)玻璃的彈性等。我司在工藝上主要關(guān)心光學(xué)玻璃的硬度。

　　光學(xué)玻璃的硬度可以用顯微硬度和相對(duì)研磨硬度來表示，相對(duì)研磨硬度在日本、臺(tái)灣企業(yè)又稱之為“磨耗度”

　　相對(duì)研磨硬度指同等研磨條件下，被測(cè)玻璃相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)玻璃K9的研磨硬度。測(cè)量方法按GB/T7962.19規(guī)定的方法進(jìn)行，測(cè)出標(biāo)準(zhǔn)玻璃K9樣品的研磨量（體積V0）與被測(cè)玻璃試樣的研磨量（體積V）其比值Fa即為被測(cè)玻璃的相對(duì)研磨硬度。  

　　Fa=V0/V=(W0/ρ0)/(W/ρ)  

　　式中：W0、W分別為標(biāo)準(zhǔn)玻璃和被測(cè)玻璃研磨重量損失，ρ為密度。

　　磨耗度=相對(duì)研磨硬度×100

光學(xué)玻璃的精密拋光的化學(xué)穩(wěn)定性

光學(xué)玻璃元件在制造和使用過程中，其拋光表面抵抗各種侵蝕性介質(zhì)作用的能力稱為光學(xué)玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性。

1 抗潮濕大氣作用穩(wěn)定性RC（S）(表面法)

根據(jù)對(duì)潮濕大氣作用的穩(wěn)定性，分為三級(jí)：

1級(jí)—在溫度50℃，相對(duì)濕度80％的條件下，光學(xué)玻璃拋光表面形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間超過 20h；

2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下，形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間在5h～20h之間； 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下，形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間不到5h。

光學(xué)玻璃

2抗酸作用穩(wěn)定性RA（S）(表面法)

根據(jù)對(duì)酸溶液作用的穩(wěn)定性，分為三級(jí)：

1級(jí)—在0.1N、溫度50℃醋l酸溶液作用下，光學(xué)玻璃拋光表面的破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間 超過5h；

2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下，破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間在1h～5h； 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下，破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間不到1h。