高純水設備運行維護

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EDI高純水設備的良好的長期運行不僅依賴于系統(tǒng)的初期設計，而且取決于正確的運行和維護。這包含系統(tǒng)的初期啟動和運行過程中的啟動/停機。為了保持系統(tǒng)的長期良好運行，需要對系統(tǒng)運行數(shù)據(jù)進行定期記錄，以便日后日常運行維護。而且日常運行維護數(shù)據(jù)對于在設備故障判斷和決定采取何種措施方面有重要意義。

測試EDI高純水設備進水水質(zhì)的下列指標：

　　進水水源：二級反滲透產(chǎn)水

　　進水當量電導率(包括CO2與Si)：<40μS/cm

　　硅：<1.0ppm以SiO2計

　　鐵，錳，硫：<0.01ppm

　　氯/氯化物：<0.02ppm以Cl2計

　　硬度：<1.0ppm以CaCO3計

　　溶解的有機物：<0.5ppm TOC中的C計

　　PH值：4-11

　　較大進水壓力bar：(1-45℃)

　　標準流量下壓差：1.4-2.1bar

　　標準回收率：90-95%

　　較高進水溫度：45℃

　　較低進水溫度：5℃

　　直流電壓(V)：0-600

　　直流電流(A)：0-6

　　運行啟動：

　　一旦EDI高純水設備系統(tǒng)已經(jīng)啟動，每次的停機和重啟動都意味著壓力和流量的變化，以及對EDI模塊的機械性沖擊。因此，系統(tǒng)的停機和重啟動的次數(shù)應當盡可能的少，以保證EDI系統(tǒng)的平穩(wěn)運行。在系統(tǒng)啟動之前和過程中的檢查應當作為一種日常工作進行，并且做好工作記錄。

高純水設備水質(zhì)要求

TEA( 含 CO 2 ) <25mg/LasCaCO 3 PH 5 - 9

硬度 < 0.1 mg/LasCaCO 3 硅 <0.5mg/L

TOC <0.5 mg/L 余氯 <0.05mg/L

Fe ， Mn ， H 2 S <0.01 mg/L 進水壓 30 － 100PSI

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純化水設備的應用

純化水設備主要應用于大輸液、醫(yī)學制劑、生物制劑等的生產(chǎn)用水基因工程等用水。

反滲透是一種借助于選擇透過性膜的工力能以壓力為推動力的膜分離技術(shù)，當系統(tǒng)中所加的壓力大于進水溶液滲透時，水分子不斷地透過膜，經(jīng)過產(chǎn)水流道流入中心管，然后在一端流出水中的雜質(zhì)，如離子、有機物、細菌、病毒等，被截留在膜的進水側(cè)，然后在濃水出水端流出，從而達到分離凈化目的。

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