熱釋發(fā)光原理

熱釋發(fā)光的強(qiáng)度隨發(fā)光體的溫度的變化曲線叫熱釋光曲線。測量時先在低溫（如液He或液N 溫度）下激發(fā)發(fā)光體。選擇加熱方式，可按分析數(shù)據(jù)的需要采取各種時間函數(shù)的變化，常用的是線性加熱。當(dāng)發(fā)光體從低溫開始受熱升溫時，淺陷阱中的電子先受熱激發(fā)到導(dǎo)帶，熱釋光曲線上升，溫度上升到T時，曲線出現(xiàn)峰值，陷阱釋空時，曲線下降。溫度繼續(xù)上升，在另一溫度T時，曲線又出現(xiàn)峰值，對應(yīng)于另一更深的陷阱。從曲線高峰的數(shù)目可推斷陷阱大致分為幾種深度，從高峰位置對應(yīng)的溫度可估計(jì)陷阱深度。 近來由于測試技術(shù)的進(jìn)步，可以測量發(fā)光光譜隨溫度的變化。利用熱釋光曲線研究陷阱是研究固體的一種簡單而重要的方法，此外，還可利用熱釋發(fā)光現(xiàn)象推斷一些古物的年代。物體受射線輻照時間越長，陷阱中俘獲的電子數(shù)越多，熱釋發(fā)光光和（熱釋發(fā)光曲線下面的面積）也越大，因此能反映發(fā)光體受輻照的歷史。測量樣品的熱釋發(fā)光光和并與參照樣品作比較，原則上可推斷化石等樣品的年代。熱釋發(fā)光及光釋發(fā)光現(xiàn)象作用相同，都是釋放陷阱電子，利用熱釋發(fā)光也可制作劑量計(jì)。粉末狀的劑量訓(xùn)一具有同時獲得較多同一樣本的讀數(shù)，靈敏度也較高，但處理較麻煩且易污染。

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熱釋光退火爐概述

本儀器采用負(fù)反饋?zhàn)詣诱{(diào)節(jié)的控制系統(tǒng)。在室溫至450℃的溫度范圍，可任意設(shè)定退火溫, 度值，儀器根據(jù)設(shè)定的退火溫度值，自動進(jìn)行升溫和恒溫控制爐內(nèi)溫度，并長時間保持爐內(nèi)恒, 溫。電路的特點(diǎn)是采用了比例微積分控制原理，爐內(nèi)溫度自動調(diào)節(jié)過程平衡，消除爐內(nèi)退火空, 間一倍；重新設(shè)計(jì)了加熱體結(jié)構(gòu)，配合新規(guī)定熱電偶的使用，保證了縱橫向溫度梯度的一, 致性；⑺配置不同規(guī)格的加熱盤，可用于不同形狀、規(guī)格的熱釋光探測器的測量，也可用于粉狀探測器的測量，測量時可根據(jù)需要更換加熱盤。外觀造型采用了控制臺側(cè)置的整體斜面操控的人性化設(shè)計(jì)，使操作更加方便合理，數(shù)碼, 顯示溫度值清晰、準(zhǔn)確。

退火

熱釋光劑量計(jì)是利用屏，體中的空穴儲存射線的能量而估計(jì)射線的照射劑量的，因而每次測量后需經(jīng)退火將殘留劑量去除，以免影響下一次的使用，不同的熱釋光劑量訓(xùn)一需要不同的退火溫度，所以溫度的選擇是十分重要的，溫度高了可能損壞劑量元件，反之，溫度低了殘留劑量去除不凈，所以退火裝置的溫度要嚴(yán)格控制，尤其具有多個發(fā)光峰的熱釋光元件，需在不同溫度下多次退火，所以更應(yīng)慎重。對于有些片狀的劑量元件，退火時還應(yīng)注意元件的變形問題，否則會影響測量結(jié)果。一般情況下，退火后對劑量元件迅速降溫，可提高劑量元件的靈敏度(玻璃管的劑量劑須注意爆裂問題)。熱釋光的應(yīng)用利用熱釋光研究材料中的陷阱，是研究材料物理的一種簡單而重要的方法。

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熱釋光劑量計(jì)使用方法

由于熱釋光劑量訓(xùn)一是累積測量，一般要幾個月的周期，期間劑量訓(xùn)一的自增長和自衰1退將影響測量結(jié)果準(zhǔn)確性，如果二者能相互抵消，對結(jié)果的影響不大，如果二者出入較大，就需進(jìn)行校正，所以自增長和自衰1退的實(shí)驗(yàn)需在特殊的條件下進(jìn)行，如低本底鉛室內(nèi)。