真空離子鍍膜機(jī)的自動(dòng)化發(fā)展

真空離子鍍膜機(jī)是太陽(yáng)能真空管生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備，隨著自動(dòng)化技術(shù)的發(fā)展，其工藝要求及自動(dòng)化程度也越來(lái)越高。

開(kāi)始的真空離子鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)采用繼電器控制，由模擬線路板及單片機(jī)等電路組成實(shí)現(xiàn)控制功能，因線路繁雜以及電子元器件的不穩(wěn)定造成設(shè)備性能的不穩(wěn)定，并且給維修工作帶來(lái)很大困難，另外操作界面不直觀，誤操作現(xiàn)象時(shí)有發(fā)生。

目前，真空離子鍍膜機(jī)已廣泛采用PLC可編程器設(shè)計(jì)控制系統(tǒng)，該技術(shù)已相當(dāng)成熟，基本取代了單片機(jī)，并采用先進(jìn)的人機(jī)界面觸摸屏進(jìn)行更加直觀的人機(jī)對(duì)話，可方便地設(shè)定參數(shù)，由控制系統(tǒng)按工藝流程分步或自動(dòng)運(yùn)行，具有各種系統(tǒng)保護(hù)以及故障提示、報(bào)警信息等功能，并且通過(guò)利用PLC通訊功能，與上位機(jī)通訊，實(shí)現(xiàn)對(duì)真空離子鍍膜機(jī)工藝流程的全程監(jiān)控，以便工程師及時(shí)發(fā)現(xiàn)并處理故障信息以及遠(yuǎn)程修改工藝參數(shù)等，較大地方便了生產(chǎn)過(guò)程質(zhì)量控制和管理。

真空電鍍機(jī)灰塵處理方式

真空電鍍機(jī)應(yīng)用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見(jiàn)，是必不可少的一項(xiàng)技術(shù)。但是真空電鍍機(jī)在使用一段時(shí)間后，表面就會(huì)留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果，那么如何處理真空鍍膜的灰塵呢？

我國(guó)真空鍍膜設(shè)備現(xiàn)狀分析

1.設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求。

2.設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問(wèn)題。

3.真空鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。

4.真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。

5.真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。

6.工作人員在操作時(shí)需要戴手套、腳套等，要有專門的服裝。

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)（真空電鍍機(jī)系列）

由于灰塵對(duì)鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空電鍍機(jī)中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點(diǎn)來(lái)盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

可鍍材料廣泛

離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴(kuò)散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而，整個(gè)工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。