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發(fā)布時(shí)間:2020-12-14 07:09  







真空磁控濺射鍍膜

說(shuō)白了無(wú)心插柳就是說(shuō)用荷能物體(一般 用稀有氣體的正離子)去轟擊固態(tài)(下列稱靶材)表層,進(jìn)而造成靶材表層上的分子(或分子結(jié)構(gòu))從在其中逸出的這種狀況。這一狀況是格洛夫(Grove)于1842年在試驗(yàn)科學(xué)研究陰極浸蝕難題時(shí),陰極原材料被轉(zhuǎn)移到真空管內(nèi)壁而發(fā)覺(jué)的。不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。

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濺射鍍膜機(jī)濺射鍍技術(shù)應(yīng)用

蒸發(fā)鍍應(yīng)用新型電極 引入裝置,接觸電阻小且可靠;磁控濺射應(yīng)用鍍膜材料廣泛,各種非導(dǎo)磁的金屬、合金均可作鍍料;結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小;磁控、蒸發(fā)共用兩臺(tái)立式工件車,操作 方便、。 (或雙門蒸發(fā)、磁控兩用機(jī)) 公司業(yè)務(wù)范圍真空鍍膜成套設(shè)備與技術(shù),真空工程用各種泵、閥、真空計(jì)、油、脂、密封件,真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。真空設(shè)備故障診斷與排除、老 產(chǎn)品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術(shù)研究,咨詢服務(wù)。新技術(shù)、新設(shè)備、新工藝公司新開(kāi)發(fā)的磁控、蒸發(fā)多用鍍膜機(jī),配用改進(jìn)型高真空抽 氣系統(tǒng)及全自動(dòng)控制系統(tǒng),抽速快、、操作簡(jiǎn)單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點(diǎn);是鍍制金屬、合金及化合物膜的理 想設(shè)備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應(yīng)用在光學(xué)、電子、通訊、航空等領(lǐng)域。當(dāng)時(shí)low-e與中空都是鍍膜廠做的,下邊玻璃加工廠根本無(wú)法介入,而現(xiàn)在鍍膜廠只需生產(chǎn)玻璃鍍膜原片。


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磁控濺射的原理

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成膜速率高,基片溫度低,膜的粘附性好,可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜。該技術(shù)可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法。

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