鍍膜機(jī)廠家介紹光學(xué)監(jiān)控法的特點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)膜厚的監(jiān)控方法較多，目前較新的方法是光學(xué)監(jiān)控法，其相對(duì)于的傳統(tǒng)的石英晶體微量平衡法來(lái)說(shuō)，光學(xué)監(jiān)控法更具有準(zhǔn)確性，因?yàn)閭鹘y(tǒng)的測(cè)試的方法很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機(jī)廠家就來(lái)為大家介紹一些光學(xué)監(jiān)控法的特點(diǎn)。

光學(xué)監(jiān)控法可以有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)，光學(xué)監(jiān)控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。能夠更準(zhǔn)確地控制膜層厚度 。

上述所說(shuō)就是鍍膜機(jī)廠家為大家介紹的光學(xué)監(jiān)控法的一些特點(diǎn)，而從中我們不難看出光學(xué)監(jiān)控相比傳統(tǒng)的監(jiān)控法來(lái)說(shuō)是一種更適合對(duì)真空鍍膜機(jī)膜厚的監(jiān)測(cè)方法。

磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

清洗過(guò)程簡(jiǎn)化

現(xiàn)有鍍膜工藝，多數(shù)均要求事先對(duì)工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗，既復(fù)雜又費(fèi)事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續(xù)于整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果較好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強(qiáng)了附著力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。

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真空電鍍機(jī)行業(yè)發(fā)展優(yōu)勢(shì)

真空電鍍機(jī)對(duì)環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室(或車(chē)間)的溫度、空氣中的微粒等周?chē)h(huán)境的要求，和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。這兩個(gè)方面是有密切聯(lián)系的。周?chē)h(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒(méi)有經(jīng)過(guò)清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。眾所周知，油封式機(jī)械泵不宜抽除對(duì)金屬有腐蝕性、對(duì)真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當(dāng)大量抽除可凝性氣體時(shí)，對(duì)泵油的污染會(huì)更加嚴(yán)重，結(jié)果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。口巨業(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、眼無(wú)題、粉塵來(lái)區(qū)分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個(gè)一個(gè)計(jì)數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無(wú)論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態(tài)均可統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來(lái)確定空氣清潔度的標(biāo)準(zhǔn)，從而定制出潔凈室的等級(jí)。不僅適合于有潔凈要求的口巨業(yè)部門(mén)，也適合于真空對(duì)潔凈環(huán)境的要求。