?真空鍍膜五金真空鍍膜加工

真空鍍膜加工技術(shù)的一般術(shù)語及工藝

2.1.8激光束蒸發(fā)：通過激光束加熱蒸發(fā)材料的蒸發(fā)。

   2.1.9間接加熱的蒸發(fā)：在加熱裝置(例如小舟形蒸發(fā)器,坩堝,燈絲,加熱板,加熱棒,螺旋線圈等)中使蒸發(fā)材料獲得蒸發(fā)所須的熱量并通過熱傳導(dǎo)或熱輻射方式傳遞給蒸發(fā)材料的蒸發(fā)。

   2.1.10閃蒸：將很少量的蒸發(fā)材料間斷地做瞬時(shí)的蒸發(fā)。

   2.2真空濺射：在真空中，惰性氣體離子從靶表面上轟擊出原子（分子）或原子團(tuán)的過程。

   2.2.1反應(yīng)性真空濺射：通過與氣體的反應(yīng)獲得理想化學(xué)成分的膜層材料的真空濺射。

 2.2.2偏壓濺射biassputtering：在濺射過程中，將偏壓施加于基片以及膜層的濺射。

   2.2.3直流二級(jí)濺射directcurrenodesputtering：通過二個(gè)電極間的直流電壓，使氣體自持放電并把靶作為陰極的濺射。

   2.2.4非對(duì)稱流濺射asymmtricalternatecurrentsputtering：通過二個(gè)電極間的非對(duì)稱流電壓，使氣體自持放電并把靶作為吸收較大正離子流的電極。

   2.2.5高頻二極濺射highfrequencydiodesputtering：通過二個(gè)電極間的高頻電壓獲得高頻放電而使靶極獲得負(fù)電位的濺射。

   2.2.6熱陰極直流濺射（三極型濺射）hotcathodedirectcurrentsputtering：借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電，氣體放電所產(chǎn)生的離子，由在陽極和陰極（靶）之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。

真空鍍膜加工五金真空鍍膜加工

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