無電鎳：

　　操作溫度85±5℃ ，PH4.5~4.8，鎳濃度約為4.9~5.1 g/l間，槽中應(yīng)保持鎳濃度低于5.5 ，否則有氫氧化沉淀可能，若低于4.5g/l則鍍速會減慢，正常析出應(yīng)以15μm/Hr，Bath loading則應(yīng)保持約0.5~1.5）dM2/l，鍍液以5 g/l為標準鎳量經(jīng)過5個Turn即必須更槽否則析出鎳質(zhì)量會變差。鎳槽可以316不銹鋼制作，槽體事先以50%HNO3鈍化，并以槽壁 外加電解陽極以防止鎳沉積，陰極可接于攪拌葉通以0.2~0.4 A/M2（0.018~0.037 ASF）低 電流，但須注意不能在槳葉區(qū)產(chǎn)生氣泡否則代表電流太強或鎳鍍層太厚必須燒槽。

酸性條件下非晶態(tài)鎳-磷合金的耐蝕性隨著磷含量的增加而提高。未經(jīng)熱處理的鍍層的耐蝕性優(yōu)于熱處理(500℃)后的鍍層。同樣,鎳-磷合金鍍層在堿性溶液和含Cl-離子的中性鹽溶液中也顯示了優(yōu)良的耐蝕性。陽極極化測試也表明,鎳-磷合金鍍層的耐蝕性與Cr鍍層相當。

有關(guān)鎳-磷合金具有良好耐蝕性的原因,一方面在于非晶態(tài)鎳-磷合金鍍層是一種均一的單相體系,不存在晶界位錯等缺陷以及化學成分偏析,也不會發(fā)生晶間腐蝕和應(yīng)力腐蝕

化學鍍鎳 影響電鍍液覆蓋能力的因素

基體材料表面狀態(tài)的影響。基體材料的表面狀態(tài)對覆蓋能力的影響比較復(fù)雜，一般情況下，一個鍍液在光潔度高的表面上的覆蓋能力要比其在粗糙表面上的好。這是因為在光潔度高的表面上真實電流密度大，容易達到金屬的析出電位，而粗糙的表面，由于其真實表面積大，其真實電流密度較小，化學鎳電鍍，使得一些部位不易達到金屬的析出電位，而沒有鍍層沉積。