鍍硬鉻表層出現(xiàn)暗淡、無(wú)光澤、麻點(diǎn)是什么原因

在平時(shí)的電鍍硬鉻過(guò)程中，可能會(huì)出現(xiàn)鍍硬鉻表層出現(xiàn)暗淡、無(wú)光澤、麻點(diǎn)的情況。那么是什么原因?qū)е碌哪兀啃菨h銘表面處理公司來(lái)為您解答：

鍍硬鉻表層出現(xiàn)暗淡、無(wú)光澤、麻點(diǎn)的可能原因：三價(jià)鉻離子過(guò)多原因分析：鍍硬鉻液中的三價(jià)鉻離子是鉻電沉積過(guò)程中Cr6 在陰極上還原產(chǎn)生的，與此同時(shí)，Cr3 在陽(yáng)極上又將重新被氧化成Cr6 ，所以，Cr6 在鍍硬鉻的鍍鉻液中的含量在一定條件下可達(dá)到平衡，平衡時(shí)的濃度取決于陰、陽(yáng)極面積之比，一般為SA:Sk=2:1。

鍍硬鉻的鍍液中Cr3 是陰極膠體膜骨架，是陰極膠體膜的主要成分，只有當(dāng)鍍硬鉻的鍍鉻液中含有一定的Cr3 時(shí)，鉻的沉積過(guò)程才能正常進(jìn)行。普通鍍鉻液中三價(jià)鉻的蕞佳含量取決于鍍硬鉻的鍍液的組成、工藝條件及雜質(zhì)的含量，一般為2～4g/L(有資料報(bào)道：Cr3 含量大約為鉻酸含量的l％～2％)，不允許超過(guò)8g/L。

當(dāng)Cr3 過(guò)低時(shí)，相當(dāng)于SO42-含量偏高時(shí)出現(xiàn)的現(xiàn)象，使陰極膜不連續(xù)，鍍硬鉻的鍍液的分散能力差，而且硬度低、光澤性差、電流效率也較低，而且只有在較高的電流密度下才產(chǎn)生鉻的沉積。當(dāng)Cr3 過(guò)高時(shí)，相當(dāng)于SO42-含量不足，陰極膜增厚，不僅顯著降低鍍液的導(dǎo)電性，使槽電壓升高，而且鍍硬鉻的鍍鉻層的光亮度范圍縮小，工件的jian端或邊緣會(huì)出現(xiàn)燒焦，如果陰極電流密度較低時(shí)，會(huì)使工件深凹處鍍不上鉻，還會(huì)引起鍍層產(chǎn)生暗色、脆性及斑點(diǎn)等。嚴(yán)重時(shí)，只能產(chǎn)生粗糙、灰色鍍層。

鍍硬鉻在磨光時(shí)出現(xiàn)爆裂現(xiàn)象是什么原因引起的呢?

鍍硬鉻的過(guò)程中如果在磨光時(shí)出現(xiàn)爆裂現(xiàn)象是什么原因引起的呢?漢銘鍍硬鉻常見(jiàn)啊來(lái)為大家解答：

（1）可能原因：鍍硬鉻的鍍液溫度太低或電流密度太大

原因分析：鍍硬鉻的鍍液的溫度太低，電流密度太大，得到的鍍層呈網(wǎng)狀裂紋，鍍硬鉻鍍層的硬度大，脆性也大，鍍層易剝落。

處理方法：

a.控制合適的鍍硬鉻的鍍液溫度和陰極電流密度；

b.采用陰極保護(hù)。

（2）可能原因：鍍硬鉻后除氫不徹底

處理方法：用l80～200℃的熱油浸漬(1～2h)或在相同溫度下的烘箱中除氫2～3h。

（3）可能原因：鍍硬鉻前工件除油不良

處理方法：改善鍍硬鉻工件的除油質(zhì)量。

（4）可能原因：鍍硬鉻前未進(jìn)行弱腐蝕處理或處理不良

處理方法：據(jù)工件形狀和材質(zhì)，進(jìn)行必要的陽(yáng)極浸蝕(生鐵除外)。

（5）可能原因：鍍硬鉻工件淬火過(guò)度

處理方法：嚴(yán)格遵守工藝規(guī)范，用180～200℃的熱油浸漬1～2h。

（6）可能原因：鍍硬鉻后磨光的砂輪太硬或磨光速度過(guò)大

處理方法：鍍硬鉻工件磨光時(shí)，使用中等粒度和硬度的砂輪，并均勻地冷卻，同時(shí)降低磨光速度。

電鍍硬鉻的除氫處理

漢銘鍍硬鉻廠家為大家介紹電鍍硬鉻的除氫處理：

電鍍硬鉻技術(shù)除氫處理的目的是減少鉻鍍層的脆性和清理基體金屬的氫脆。同時(shí)，希望盡可能使電鍍硬鉻鉻層的硬度不受影響。

除氮應(yīng)在電鍍硬鉻之后，盡快在油烘箱或真空中進(jìn)行。電鍍硬鉻去氫的溫度約100-300℃，常用溫度為180℃。過(guò)高的溫度會(huì)使電鍍硬鉻鍍層變軟，例如某鉻鍍層200℃處理15分鐘后，硬度為812HV--6000。

凡是電鍍硬鉻前硬度為40HRC的基體鍍后須盡快除氫，在（200士5）℃的烘箱或真空中至少除氫3小時(shí)，電鍍硬鉻前硬度為55HRC的基體，鍍后除氮溫度則要降到（150士5）℃，除氫時(shí)間也要適當(dāng)延伸。