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微弧氧化技術(shù)
微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽(yáng)極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域,克服了硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的缺陷,極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固,結(jié)構(gòu)致密,韌性高,具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。微弧氧化技術(shù)的原理及特點(diǎn)微弧氧化陶瓷技術(shù)是一種在鋁、鎂、鈦等輕金屬合金表面原位生長(zhǎng)陶瓷層的高新技術(shù)。該技術(shù)具有操作簡(jiǎn)單和膜層功能可控的特點(diǎn),而且工藝簡(jiǎn)便,環(huán)境污染小,是一項(xiàng)全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術(shù),在航空航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源
微弧氧化槽液
微弧氧化主要針對(duì)鋁、鎂、鈦、等閥金屬(閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬)。微弧氧化處理可在酸性和堿性電解液中進(jìn)行,但由于酸性電解液對(duì)環(huán)境污染性較大現(xiàn)已較少使用。嚴(yán)重制約了而上釉工藝可以在金屬表面涂上色彩并經(jīng)過(guò)高溫?zé)Y(jié),形成耐磨,結(jié)合力好的表面處理。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等,在單一或者它們的復(fù)合電解液中,增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等,以達(dá)到提高膜層生長(zhǎng)速率和致密性等或者功能性膜層的目的。微弧氧化處理應(yīng)根據(jù)基體材料的種類選用合適的電解液體系。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)
微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高,耐蝕性強(qiáng),絕緣性好,膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng),并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術(shù)工藝處理能力強(qiáng),可通過(guò)改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要;也可通過(guò)改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色;還可采用不同的電解液對(duì)同一工件進(jìn)行多次微弧氧化處理,以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。這從根本上克服了鋁、鎂、鈦合金材料在應(yīng)用中的缺點(diǎn),因此該技術(shù)有廣闊的應(yīng)用前景。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化
微弧氧化的優(yōu)勢(shì)
微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷層的新技術(shù),微弧氧化技術(shù)是近十幾年在陽(yáng)極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的,但兩者在機(jī)理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。所謂等離子體就是由大量的自由電子和離子組成,且在整體上表現(xiàn)為電中性的物質(zhì),它被稱為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)以外的第四態(tài)。但是,這樣不但使電源結(jié)構(gòu)復(fù)雜化,同時(shí)也增加了控制電路的負(fù)擔(dān),使電源成本增加。處于熱等離子態(tài)的物質(zhì)具有強(qiáng)的導(dǎo)電性,且能量集中,溫度較高,是一個(gè)高熱、高溫的能源。與傳統(tǒng)的陽(yáng)極氧化法相比,微弧氧化陶瓷膜與基體結(jié)合牢固,結(jié)構(gòu)致密,具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應(yīng)用前景。