真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。

真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。

物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復性好等優(yōu)點。同時，物理氣相沉積技術由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發(fā)、高可靠性設備的同時，也對其應用領域的擴展，尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深入的研究。

化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

電子束蒸發(fā)的優(yōu)點在于：

電子束的光斑可以隨意調整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子槍一樣節(jié)約資源。目前運用多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作簡單的一種，所以運用非常廣。

鍍膜的工藝種類有哪些不同點？

水電鍍：一般適用于ABS料、ABS PC料的產(chǎn)品。主要工藝是將需電鍍的產(chǎn)品放入化學電鍍液中進行電鍍。依據(jù)客戶的不同需求，可鍍成不同的色彩，與高光銀色、亞銀色、灰銀，槍色，金色，黑鉻色，半光鉻。因為電鍍后的產(chǎn)品其導電性顯著增強，關于某些需絕緣的部件怎么辦？

方法有兩種：其一，在需絕緣的部位涂上絕緣油，該部位在電鍍時就不會被電鍍到，然后到達絕緣作用！當然，涂了絕緣油的部位會變黑，就不適合作為外觀面了。其二，在需電鍍的部位用特別的膠紙貼住，維護起來，同樣到達絕緣的作用。

冷成型模真空鍍膜機

高強度材料成形冷成型模真空鍍膜機高強度金屬成型中存在的高成型壓力和產(chǎn)生的摩擦成為工模具和涂層要面對的重要挑戰(zhàn)。PVD和CVD涂層展示的韌性、耐磨性和抗磨損性能顯著提高工具的生產(chǎn)能力。

HC90Concept，作為一種無需氮化處理的新型物理氣相沉積（PVD）涂層，對于這些應用領域來講是非常理想的解決方案。HC22，HC25，HC30或HC62，均結合了氮化處理，對于公差要求高的工具是非常合適的涂層方案。HC02和HC62是非常適合公差要求不高工具的涂層方案。

有色金屬材料成型有色金屬材料通常比一般鋼材有更好的成形性，但其表面更難改變。HCPVD和PACVD涂層工藝的韌性、耐磨性、低摩擦和抗磨損性能夠顯著加強工具的生產(chǎn)能力，提高零部件的質量。冷鍛冷鍛是一種將固定大小的金屬塊組合成等量的復雜形狀的成型工藝。此過程中的工模具要經(jīng)受高強度的壓力和高速率，和工件接觸的表面必然會產(chǎn)生磨料和粘著磨損。HCPVD和PACVD和HCCVD涂層工藝的韌性、耐磨性和低摩擦性能能夠顯著提高工模具的使用壽命和產(chǎn)品的質量。