湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

與氣體滲氮相比滲氮組織易于控制。通過(guò)調(diào)節(jié)氮、氧及其他（如碳、氧、硫等）氣氛的比例，可自由地凋節(jié)化合物層的棚組成，從而獲得預(yù)期的機(jī)械性能。

當(dāng)交流電壓的頻率較低(50HZ~5KHZ)時(shí)，工作氣體起輝點(diǎn)火電壓與直流放電時(shí)基本相同。當(dāng)電壓的頻率增加到中頻時(shí)，起輝點(diǎn)火電壓比用純直流靶電源時(shí)降低很多。??雙極性脈沖中頻靶電源，根據(jù)有無(wú)“串聯(lián)電壓調(diào)整”電路有分為“工藝型”和“經(jīng)濟(jì)型”兩種。氮離子在鋼件表面獲得電子，還原成氮原子而滲人鋼件表面并向內(nèi)部擴(kuò)散，形成滲氮層。?

1992年，Roth小組在5mm氦氣間隙實(shí)現(xiàn)了APGD，并聲稱在幾個(gè)毫米的空氣間隙中也實(shí)現(xiàn)了APGD, 主要的實(shí)驗(yàn)條件為濕度低于15% 、氣體流速50l/min、頻率為3kHz的電源并且和負(fù)載阻抗匹配。他們認(rèn)為“離子捕獲”是實(shí)現(xiàn)APGD的關(guān)鍵。電容耦合穿過(guò)絕緣材料或空間，電極就不再限于導(dǎo)電材料，可以濺射任何材料，因此射頻輝光放電廣泛用于絕緣或介質(zhì)材料的濺射沉積鍍膜。

次大氣壓下輝光放電(HAPGD)由于大氣壓輝光放電技術(shù)目前雖有報(bào)道但技術(shù)還不成熟，沒(méi)有見(jiàn)到可用于工業(yè)生產(chǎn)的設(shè)備。而次大氣壓輝光放電技術(shù)則已經(jīng)成熟并被應(yīng)用于工業(yè)化的生產(chǎn)中。次大氣壓輝光放電可以處理各種材料，成本低、處理的時(shí)間短、加入各種氣體的氣氛含量高、功率密度大、處理。可應(yīng)用于表面聚合、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學(xué)合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和紡織品的表面處理。因正離子的漂移速度遠(yuǎn)小于電子，故正離子空間電荷區(qū)的電荷密度比電子空間電荷區(qū)大得多，使得整個(gè)極間電壓幾乎全部集中在陰極附近的狹窄區(qū)域內(nèi)。