什么是DLC鍍膜設(shè)備

DLC鍍膜設(shè)備是在中間設(shè)置真空室，在真空室的左右兩側(cè)設(shè)置左右大門，蒸發(fā)DLC鍍膜設(shè)備而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，蒸發(fā)DLC鍍膜設(shè)備可在該雙門上預(yù)留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。DLC鍍膜設(shè)備作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。DLC鍍膜設(shè)備技術(shù)有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

它應(yīng)用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等，如手表、手機金屬殼、潔具、刀具、模具、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。并且他是專業(yè)在塑料玻璃金屬等表面進行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專用設(shè)備，DLC真空鍍膜設(shè)備鍍出的膜層牢固且細密環(huán)保，我們?nèi)粘Ｉ钪卸茧x不開DLC真空鍍膜設(shè)備。

中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備有哪些特點

中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異?；」夥烹姟Ｒ虼?，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類設(shè)備廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統(tǒng)介紹

真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統(tǒng)按位置分為控制柜、變壓器組和操作臺三個主要部分。設(shè)備所有功能的控制元器件包括可編程PLC、變頻器、調(diào)壓模塊等都裝在控制柜里，控制柜的正面安裝有電阻、電離復(fù)合真空計，安裝有增壓泵、擴散泵的加熱電流表以及三相電源的指示燈、報警指示燈、緊急停止開關(guān)。

變壓器組安裝在真空罐的下面，其輸出端正極直接與對應(yīng)的蒸發(fā)電極棒連接，輸出端負極并接后再與蒸發(fā)負極連接。

操作臺安放在真空罐的前方、觀察窗的下方，觸摸屏、各部件的操作控制按鈕、旋鈕或開關(guān)都設(shè)在操作臺的面板上。

觸摸屏位于操作面板的左上部，卷繞系統(tǒng)參數(shù)包括收放卷的張力、卷徑、機器的運行速度等的設(shè)置和數(shù)據(jù)顯示、真空系統(tǒng)的運行指示都在觸摸屏中進行。

操作面板的右上部是蒸發(fā)源加熱功率調(diào)節(jié)鈕和電流表，可以調(diào)節(jié)和顯示每組蒸發(fā)源的功率。

操作面板的下部是功能控制按鈕或開關(guān)，包括控制電源總開關(guān)、卷繞車進退、擺臂進退、彎輥正反轉(zhuǎn)、送絲開關(guān)及速度快慢、蓋板開關(guān)、系統(tǒng)運行的控制模式選擇等。