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石碣標(biāo)牌曝光顯影工藝給您好的建議

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-16 07:45  
因外層一般需二次鍍銅,外層所用底片剛好與內(nèi)層相反,底片為正片。顯影后,把尚未發(fā)生聚合反應(yīng)的區(qū)域用顯像液將之沖洗掉,已感光部分則因已發(fā)生聚合反應(yīng)而洗不掉而留在銅面上成為蝕刻或電鍍之阻劑膜,將顯影后的露銅面的厚度加后,以達(dá)到客戶所要求的銅厚,在鍍完二次銅的表面鍍上一層錫保護(hù),做為蝕刻時(shí)的保護(hù)劑。將抗電鍍用途之干膜以藥剝除,將非導(dǎo)體部分的銅蝕掉。將導(dǎo)體部分的起保護(hù)作用之錫剝除,留下的就是線路圖形。


自然干燥時(shí)間過長造成暗感光。

一般絲網(wǎng)印刷在上膠后用 38-40攝氏度烘干,完成zhi烘干后的網(wǎng)版必須盡快曝光/顯影。

如果制版數(shù)量很大,不需要使用烘干設(shè)備,可以考慮存放于空調(diào)房間(25攝氏度),這樣可以延長未曝光前的保存時(shí)間。但是上膠后的網(wǎng)版,一般不允許存放超過4-6小時(shí)。1,可能是感光膠與重氮感光劑配比不正確。

2,可能是配置好的zhi感光膠存放于光亮處或溫度較高的地方,或存放時(shí)間過長,放置超過72小時(shí)。

3,可能是上膠后的絲網(wǎng)烘干溫度過高或時(shí)間過長。



負(fù)性膠與正性膠性能特征進(jìn)行了比較,結(jié)論概括如下:

1、曝光顯影過程不同

正性膠在曝光區(qū)間顯影,負(fù)性膠則相反。

2、形成的輪廓不同

負(fù)性膠和正性膠邊界漫射光形成的輪廓不同,負(fù)性膠由于曝光區(qū)間得到保留,漫射形成的輪廓使顯影后的圖象為上寬下窄的圖像;而正性膠相反,為下寬上窄的圖像。

3、顯影劑的溶液不同

正膠溶于強(qiáng)堿,顯影劑采用中型堿溶液,而是負(fù)性膠多采用有機(jī)溶液,如二甲本溶液。




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