離子鍍

在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法。3、材料本身：產(chǎn)地、厚度、規(guī)格、內(nèi)部構(gòu)成化學(xué)元素、表面初始加工的相似度?？蓪㈦x子發(fā)生源與工作室分離，克服了濺射鍍膜為了持續(xù)放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對(duì)襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著力和質(zhì)量，是一種結(jié)合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢(shì)的PVD技術(shù)。

根據(jù)離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。

蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。既然納米噴鍍能在多種材料的表面上實(shí)現(xiàn)鍍制，那它的表面性能又如何呢。由于真空罩內(nèi)充有惰性氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的離子受陰極負(fù)高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。

較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式?？招年帢O離子鍍與熱絲弧離子鍍，是熱弧光放電，產(chǎn)生電子的原因均可簡(jiǎn)單概括為金屬材料由于被加熱到很高的溫度，導(dǎo)致核外電子的熱發(fā)射。多弧鍍?cè)O(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機(jī)電源供電即可工作，其引弧的過程也與電焊類似，具體地說，在一定工藝氣壓下，引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸，斷開，使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動(dòng)的弧斑，在蒸發(fā)源表面上連續(xù)形成熔池，使金屬蒸發(fā)后，沉積在基體上而得到薄膜層的，與磁控濺射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金屬離子離化率高，薄膜與基體之間結(jié)合力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。

目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色值進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高蒸發(fā)速率高特別適合蒸發(fā)成分復(fù)雜的合金或化合物，膜層的化學(xué)計(jì)量比與靶材保持一致缺點(diǎn)易產(chǎn)生微小顆粒飛濺，影響薄膜質(zhì)量。裝飾鍍的目的：主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤，同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命；這方面主要應(yīng)用五金行業(yè)的各個(gè)領(lǐng)域，如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。