濕式研磨與干法研磨的區(qū)別

濕法研磨與干法研磨的區(qū)別 干法研磨指進(jìn)行研磨作業(yè)時(shí)物料的含水量不超過(guò)4%，而濕法研磨則是將原料懸浮于載體液流中進(jìn)行研磨，適當(dāng)添加分散劑等助劑幫助研磨進(jìn)行。濕法研磨機(jī)時(shí)物料含水量超過(guò)50%時(shí)，可克服粉塵飛揚(yáng)問(wèn)題。在食品加工上，研磨的物料經(jīng)常作為浸出的預(yù)備操作，使組分易于溶出，故頗適于濕式研磨法。但濕法操作一般消耗能量較干法操作的大，同時(shí)設(shè)備的磨損也較嚴(yán)重。機(jī)械干法研磨較難獲取亞微米級(jí)別的粉體，化學(xué)制粉成本高，因此濕法研磨成為制備超細(xì)粉體的一個(gè)重要手段。從實(shí)際應(yīng)用來(lái)看，這兩者之間并沒(méi)有的優(yōu)劣之分，要根據(jù)實(shí)際的產(chǎn)品特點(diǎn)及經(jīng)濟(jì)效益來(lái)選取適當(dāng)?shù)奶幚矸椒ā?/p>

研磨機(jī)和拋光機(jī)相應(yīng)搭配的研磨耗材

研磨機(jī)和拋光機(jī)相應(yīng)搭配的研磨耗材 對(duì)于研磨機(jī)和拋光機(jī)相信不用為大家詳細(xì)介紹了，前面已經(jīng)為兩者的區(qū)別進(jìn)行了介紹。研磨機(jī)和拋光機(jī)兩者設(shè)備，一種用于研磨，一種用于拋光。這兩者主要功能不同也決定搭配的耗材有區(qū)別，下面簡(jiǎn)單了解研磨機(jī)和拋光機(jī)搭配的耗材有哪些？ 在東研，研磨機(jī)相應(yīng)的搭配耗材有研磨盤(pán)和研磨液，研磨盤(pán)有研磨砂盤(pán)、合成銅盤(pán)和合成鐵盤(pán)；而研磨液有鉆石研磨液多種型號(hào)。而拋光機(jī)的搭配耗材是拋光皮和拋光液，東研為拋光機(jī)設(shè)備提供相應(yīng)的拋光皮有進(jìn)口黃色拋光皮、黑色拋光皮和白色拋光皮。而拋光液多適用于各種金屬材質(zhì)，如鋁材、不銹鋼、銅材以及銀等。

雙面研磨拋光機(jī)工作特點(diǎn)介紹

雙面研磨拋光機(jī)工作特點(diǎn)介紹 雙面研磨拋光機(jī)比單面研磨拋光機(jī)多一個(gè)功能便是可以實(shí)現(xiàn)正反面的研磨加工，其主要應(yīng)用于不銹鋼、鋁合金、五金配件以及陶瓷、寶石首飾等行業(yè)領(lǐng)域。 雙面研磨拋光機(jī)的工作原理是通過(guò)將研磨工件放置研磨盤(pán)上，工件與研磨盤(pán)相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)摩擦達(dá)到研磨拋光的目的。在實(shí)際研磨加工中，雙面研磨拋光機(jī)配合高精度修面裝置，可以使工件的平面度達(dá)到0.002MM。 高精度的研磨工藝讓更多的廠家選擇雙面研磨拋光機(jī)完成表面處理，為企業(yè)減少了研磨時(shí)間和耗材成本。 --- 研磨機(jī)的應(yīng)用行業(yè)有哪些 研磨機(jī)是平面研磨加工中主要的應(yīng)用設(shè)備，采用PLC為控制核心，操作界面直觀、操作方便。在眾多要求高精度的行業(yè)中應(yīng)用十分廣泛，都說(shuō)研磨機(jī)的應(yīng)用行業(yè)廣，到底涉及到哪些領(lǐng)域呢，下面就為大家具體總結(jié)了一番。 1、手機(jī)行業(yè) 研磨機(jī)在手機(jī)零件的應(yīng)用是為認(rèn)知的，像華為、小米、OPPO等品牌所應(yīng)用的手機(jī)外殼、攝像頭、中框都是通過(guò)研磨加工而成。 2、五金行業(yè) 五金行業(yè)就不用多說(shuō)了，很多五金配件都需要經(jīng)過(guò)平面研磨加工才能達(dá)到預(yù)期的效果。 3、LED寶藍(lán)石行業(yè) 研磨機(jī)可處理LED芯片、寶藍(lán)石襯底、基片以及外延片。 4、機(jī)械密封件 研磨機(jī)在研磨加工機(jī)械密封件方面可以研磨更高的精度，比如塑膠墊圈、金屬密封圈等都是研磨拋光后的制品。

平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)的差別

平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)的差別論 平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)都是表面處理行業(yè)常用到的設(shè)備，雖然這兩者都是適用于平面的工件，但還是有很多不同的，接下來(lái)就從以下幾個(gè)方面來(lái)闡述它們之間的差別。 首先是用途上的差別，平面研磨機(jī)主要用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。而平面拋光機(jī)是處理平面工件的塌邊現(xiàn)象，平滑，斑點(diǎn)，祛除工件表面的劃痕，完成超精密加工使工件表面光滑以達(dá)到鏡面效果。 其次是工作原理的差別，平面研磨機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤(pán)上，研磨盤(pán)逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng)，修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對(duì)工件施壓，工件與研磨盤(pán)作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來(lái)達(dá)到研磨拋光目的。而平面拋光機(jī)是通過(guò)發(fā)動(dòng)機(jī)帶動(dòng)磨盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，并和在磨盤(pán)上自轉(zhuǎn)的工件產(chǎn)生摩擦，運(yùn)用摩擦產(chǎn)生切削力，將工件表面凹凸不平的地方磨平，來(lái)達(dá)到拋光目的。 很多對(duì)平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)分不清的朋友看完這篇文章應(yīng)該有所了解，明白這兩者的區(qū)別有哪些。平面研磨機(jī)和平面拋光機(jī)是表面處理的美化師，為我們呈現(xiàn)眾多不同的表面美觀的工件。