等離子拋光作為一種新的拋光工藝,是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時間和成本。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學(xué)物質(zhì)。

等離子就是在高溫高壓下,拋光鹽水溶,在高溫高壓下,電子會脫離原子核而跑出來,原子 核就形成了一個帶正電的離子,當這些離子達到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當這些等離子和要拋光的物體摩擦時,頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。對工件的任何一個面都能拋光。

等離子拋光加工廠家

提高生產(chǎn)效率。半自動、全自動環(huán)保等離子納米拋光設(shè)備通過藥劑可在十幾秒到兩分鐘內(nèi)達到電鍍鏡面效果，大大提高了生產(chǎn)效率。

等離子拋光所產(chǎn)生的表面電流密度與液態(tài)電打磨相當，但由倍亮拋光自主研發(fā)的等離子拋光技術(shù)，其材料去除速度為1μm/min，是液態(tài)電打磨的10-30倍。

我們研發(fā)并應(yīng)用無毒的拋光鹽來產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體，不僅獲取均勻一致的拋光效果，更避免了對人體有害的工作環(huán)境。低濃度的等離子液對環(huán)境友好，有效規(guī)避因污染環(huán)境帶來的經(jīng)濟損失。

與傳統(tǒng)拋光工藝相比，環(huán)保等離子納米拋光工藝的優(yōu)勢主要表現(xiàn)在：

減輕環(huán)保壓力。輝碟自動化可以有限公司所使用的納米拋光液非常環(huán)保，其廢液可以直接排放而不會造成污染，也可以稍作處理回收利用。納米拋光加工費用低，有利于推廣，并且對加工環(huán)境無污染，適應(yīng)綠色制造的發(fā)展方向。

全新拋光配方，針對金屬打印、鑄造、切削等工件拋光。穩(wěn)定、自由的納米級等離子，直達工件表面凹處及死角位進行精細拋光，獲得均勻的亮度表現(xiàn)。