曝光及顯影設(shè)備還包括主體曝光機(jī)10、基板輸送機(jī)構(gòu)50及傳送裝置40。主體曝光機(jī)10用于先對(duì)基板S的主體進(jìn)行曝光。傳送裝置40用于將來(lái)自該主體曝光機(jī)10的基板S傳送至基板輸送機(jī)構(gòu)50,傳送裝置40例如為機(jī)械手臂?；遢斔蜋C(jī)構(gòu)50用于將基板S輸送至顯影裝置30，基板輸送機(jī)構(gòu)50例如為輸送輥。由于該基板的長(zhǎng)邊邊緣容易存在殘留光阻，因此，本公開(kāi)通過(guò)設(shè)置對(duì)應(yīng)于基板的長(zhǎng)邊邊緣的邊緣曝光裝置20，即可去除絕大部分的殘留光阻。


覆蓋能力與蝕刻件表面狀態(tài)，特別是表面的清潔度有很大關(guān)系，相同的基體材料在相同的蝕刻液中施蝕刻時(shí)，光潔度好的基體表面上覆蓋能力要比粗糙而不潔的基體表面好。原因是光潔的蝕刻件表面其實(shí)際電流密度高，電流均勻，易于達(dá)到金屬的析出電位。特別是蝕刻件表面礙蝕刻層處理不觸底，表面存在未除盡污漬、油膜或成相膜層等，將妨礙蝕刻層在表面沉積導(dǎo)致蝕刻層架在薄油膜上，或被局部絕緣，覆蓋呢你下降。

消費(fèi)進(jìn)程中的控制。消費(fèi)進(jìn)程中的控制次要表如今對(duì)溶液的回收，而不是間接的排放。詳細(xì)做法是在任務(wù)缸的左近添加一個(gè)回收缸，然后再停止水洗等后續(xù)加工。

對(duì)清洗水及廢液的處置。蝕刻加工中必要的廢水處置設(shè)備是必需的，不能由于本身的利益而危害環(huán)境。假如有新添加的工序，應(yīng)對(duì)新增工序所用化學(xué)品發(fā)生的廢液有完善的處置辦法，假如現(xiàn)有的廢水處置設(shè)備不能對(duì)其停止處置則必需要新增相應(yīng)的處置設(shè)備，保證從金屬蝕刻消費(fèi)線所排放的廢水要達(dá)標(biāo)排放。