真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積技術和化學氣相沉積技術。

物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。

真空鍍膜有哪些優(yōu)勢呢？

簡單清潔，不吸塵。

使塑料外表有導電性，改善美觀，外表光滑，金屬光澤彩色化，大大提高裝飾性。

改進外表硬度，原塑膠外表比金屬軟而易受損害，經(jīng)過真空鍍膜技術，硬度及耐磨性大大添加。

削減吸水率，鍍膜次數(shù)愈多，吸水率下降，制品不易變形，提高耐熱性。

真空鍍膜就是于真空室內(nèi)，采用一定方法使材料凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低。

真空鍍膜設備普遍應用于工業(yè)生產(chǎn)，無論是小產(chǎn)品還是大產(chǎn)品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產(chǎn)品，基本上所有需要進行表面處理鍍膜的都需要用到。

真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。不但可以制備可控制的超薄薄膜、原子級平整度的表面、上百層的疊加膜，而且還可以控制薄膜的成分和配比。真空鍍膜技術為制造各種各樣的清潔表面提供了手段。這些薄膜的制備均為科學的研究和發(fā)展提供充分的條件。金屬化學氣相沉積

真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜。

1.在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，須先開水管，工作中應隨時注意水壓。

2.在離子轟擊和蒸發(fā)時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。

3.在用電子鍍膜時，應在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃要用鉛玻璃，觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。

4.鍍制多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。