由于表面氧化膜具有較高的孔隙率和吸附性能，它很容易受到污染，所以陽極氧化后，應對膜層進行封閉處理，以提高膜層的耐蝕性，耐磨性以及絕緣性。常用的封閉方法有：沸水和蒸氣封閉法/重鉻酸鹽封閉法

鋁和鋁合金表面上能否生成的硬質(zhì)氧化膜層，主要取決于電解液的成份濃度，溫度，電流密度，及其原材料的成分。

電解液的濃度

采用硫酸電解液進行硬質(zhì)陽極氧化時，一般在10%～30%濃度范圍內(nèi)，濃度低時，氧化膜硬度高，特別是純鋁比較明顯，但對銅含量較高的鋁合金（CY12）例外。因為含銅量較高的鋁合金易生成CuAl2的化合物，這種化合物在氧化時溶解速度較快，極易燒毀鋁零件。所以一般不適合用低濃度的硫酸電解液，必須在高濃度（H2SO4在 300～400g/L）中進行氧化處理或采用交直流電疊加法處理。

鋁氧化所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液，鉛作為陰極，僅起導電作用。鋁以及其鋁合金制品進行陽極氧化時，鋁氧化在陽極作用下發(fā)生了下列的反應：2Al--->6e- 2Al3 ；在陰極的作用下發(fā)生下列反應：6H2O 6e---->3H2 6OH-；同時其酸對鋁及制品的生成的氧化膜進行化學反應溶解，其反應為：2Al 6H --->2Al3 3H2；Al2O3 6H --->2Al3 3H2O氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。

無孔層形成。通電在剛開始的幾秒鐘到幾十秒的時間之內(nèi)，鋁表面立即生成一層致密的、具有很高絕緣性能的鋁氧化膜層，厚度約0.01～0.1微米，為一層連續(xù)的、無孔的薄膜層，我們稱之為無孔層或者是阻擋層，此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過和膜層的繼續(xù)增厚。無孔層的厚度與形成的電壓大小成正比關系，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此，曲線ab段的電壓就表現(xiàn)出其由零開始急劇增大至其值。

陽極氧化是國現(xiàn)代基本和通用的鋁合金表面處理的方法。陽極氧化可分為普通陽極氧化和硬質(zhì)陽極氧化。鋁及鋁合金電解著色所獲得的色膜具有良好的耐磨、耐曬、耐熱和耐蝕性，廣泛應用于現(xiàn)代建筑鋁型材的裝飾防蝕。然而，鋁陽極氧化膜具有很高孔隙率和吸附能力，容易受污染和腐蝕介質(zhì)侵蝕，心須進行封孔處理，以提高耐蝕性、抗污染能力和固定色素體。