磁控鍍膜機的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些 下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積. 現在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點. 直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現象. 而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

真空設備系統的簡單介紹

真空設備系統的簡單介紹 真空設備系統是由什么組成的呢？今天我們就來為大家簡單介紹一下。 (1)主泵：在真空系統中，用于獲得所需要真空度來滿足特定工藝要求的真空泵，如真空鍍膜機中的油擴散泵就是主泵。 (2)前級泵：用于維持某一真空泵前級壓強低于其臨界前級壓強的真空泵。如羅茨泵前配置的旋片或滑閥泵就是前級泵。 (3)粗抽泵：從大氣壓下開始抽氣，并將系統壓力抽到另一真空泵開始工作的真空泵。如真空鍍膜機中的滑閥泵，就是粗油泵。 (4)維持泵：在真空系統中，氣量很小時，不能有效地利用前級泵。為此配置一種容量較小的輔助泵來維持主泵工作，此泵叫維持泵。如擴散泵出口處配一臺小型旋片泵，就是維持泵。

光學鍍膜機對于單片膜色不均勻產生的原因

光學鍍膜機對于單片膜色不均勻產生的原因 光學鍍膜機主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。 另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題。 改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。 改善對策： ㈠ 條件許可，用行星夾具; ㈡ 選用傘片平坦(R大)的機臺; ㈢ 根據傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 ㈣ 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 ㈤ 改善鏡圈()，防止遮擋。 ㈥ 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 ㈦ 清潔鏡圈() ㈧ 改善膜料蒸發(fā)狀況。