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NR9 3000PY光刻膠價(jià)格擇優(yōu)推薦 北京賽米萊德

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發(fā)布時(shí)間:2021-08-02 14:26  






光刻膠編碼

HS編碼:


3707100001 [類注] | [章注] | [子目注釋]

中文描述: 不含銀的感光乳液劑 (CIQ碼:301:液體)
英文描述: Non--0--silver light-sensitive emulsion agent
申報(bào)要素: 0.品牌類型;1.出口享惠情況;2.用途;3.包裝;4.成分;5.是否含銀;6.品牌;7.型號(hào);8.是否有感光作用(以下要素僅上海海關(guān)要求)9.GTIN;10.CAS
申報(bào)要素舉例: / 1.感光劑;2.用途:感光材料,用于噴墨制版機(jī);1μm高溫耐受用于i線曝光的負(fù)膠LEDOLED、顯示器、MEMS、封裝、生物芯片等金屬和介電質(zhì)上圖案化,不必使用RIE加工器件的永組成(OLED顯示器上的間隔區(qū))凸點(diǎn)、互連、空中連接微通道顯影時(shí)形成光刻膠倒梯形結(jié)構(gòu)厚度范圍:0。3.包裝:瓶裝;4.成分:重氮樹(shù)脂94%以上;5.無(wú)品牌;6.無(wú)型號(hào)
單位: 千克


NR9-3000PYNR9 3000PY光刻膠價(jià)格

三、光刻膠涂覆(Photoresist Coating)

光刻膠涂覆通常的步驟是在涂光刻膠之前,先在900-1100度濕氧化。氧化層可以作為濕法刻蝕或B注入的膜版。作為光刻工藝自身的首先過(guò)程,一薄層的對(duì)紫外光敏感的有機(jī)高分子化合物,即通常所說(shuō)的光刻膠,要涂在樣品表面(SiO2)。首先光刻膠被從容器中取出滴布到置于涂膠機(jī)中的樣品表面,(由真空負(fù)壓將樣品固定在樣品臺(tái)上),樣品然后高速旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速由膠粘度和希望膠厚度確定。不同曝光波長(zhǎng)的光刻膠,其適用的光刻極限分辨率不同,通常來(lái)說(shuō),在使用工藝方法一致的情況下,波長(zhǎng)越小,加工分辨率越佳。在這樣的高速下,膠在離心力的作用下向邊緣流動(dòng)。

涂膠工序是圖形轉(zhuǎn)換工藝中初的也是重要的步驟。涂膠的質(zhì)量直接影響到所加工器件的缺陷密度。為了保證線寬的重復(fù)性和接下去的顯影時(shí)間,同一個(gè)樣品的膠厚均勻性和不同樣品間的膠厚一致性不應(yīng)超過(guò)±5nm(對(duì)于1.5um膠厚為±0.3%)。

光刻膠的目標(biāo)厚度的確定主要考慮膠自身的化學(xué)特性以及所要圖形中線條的及間隙的微細(xì)程度。太厚膠會(huì)導(dǎo)致邊緣覆蓋或連通、小丘或田亙狀膠貌、使成品率下降。在MEMS中、膠厚(烤后)在0.5-2um之間,而對(duì)于特殊微結(jié)構(gòu)制造,膠厚度有時(shí)希望1cm量級(jí)。在后者,旋轉(zhuǎn)涂膠將被鑄膠或等離子體膠聚合等方法取代。隨著12寸先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)線的興建和多次曝光工藝的大量應(yīng)用,193nm及其它先進(jìn)光刻膠的需求量將快速增加。常規(guī)光刻膠涂布工序的優(yōu)化需要考慮滴膠速度、滴膠量、轉(zhuǎn)速、環(huán)境溫度和濕度等,這些因素的穩(wěn)定性很重要。

在工藝發(fā)展的早期,負(fù)膠一直在光刻工藝中占主導(dǎo)地位,隨著VLSI IC和2~5微米圖形尺寸的出現(xiàn),負(fù)膠已不能滿足要求。隨后出現(xiàn)了正膠,但正膠的缺點(diǎn)是粘結(jié)能力差。

用正膠需要改變掩膜版的極性,這并不是簡(jiǎn)單的圖形翻轉(zhuǎn)。因?yàn)橛醚谀ぐ婧蛢煞N不同光刻膠結(jié)合,在晶園表面光刻得到的尺寸是不一樣的,由于光在圖形周?chē)难苌湫?yīng),使得用負(fù)膠和亮場(chǎng)掩膜版組合在光刻膠層上得到的圖形尺寸要比掩膜版上的圖形尺寸小。用正膠和暗場(chǎng)掩膜版組合會(huì)使光刻膠層上的圖形尺寸變大。用RR5去膠液可以很容易的去膠NR9-3000PY的制作和工藝是根據(jù)職業(yè)和環(huán)境的安全而設(shè)計(jì)。


NR9-3000PY

四、對(duì)準(zhǔn)(Alignment)

光刻對(duì)準(zhǔn)技術(shù)是曝光前的一個(gè)重要步驟作為光刻的三大核心技術(shù)之一,一般要求對(duì)準(zhǔn)精度為細(xì)線寬尺寸的 1/7---1/10。隨著光刻分辨力的提高 ,對(duì)準(zhǔn)精度要求也越來(lái)越高 ,例如針對(duì) 45am線寬尺寸 ,對(duì)準(zhǔn)精度要求在5am 左右。

受光刻分辨力提高的推動(dòng) ,對(duì)準(zhǔn)技術(shù)也經(jīng)歷 迅速而多樣的發(fā)展 。從對(duì)準(zhǔn)原理上及標(biāo)記結(jié) 構(gòu)分類 ,對(duì)準(zhǔn)技術(shù)從早期的投影光刻中的幾何成像對(duì)準(zhǔn)方式 ,包括視頻圖像對(duì)準(zhǔn)、雙目顯微鏡對(duì)準(zhǔn)等,一直到后來(lái)的波帶片對(duì)準(zhǔn)方式 、干涉強(qiáng)度對(duì)準(zhǔn) 、激光外差干涉以及莫爾條紋對(duì)準(zhǔn)方式 。從對(duì)準(zhǔn)信號(hào)上分 ,主要包括標(biāo)記的顯微圖像對(duì)準(zhǔn) 、基于光強(qiáng)信息的對(duì)準(zhǔn)和基于相位信息對(duì)準(zhǔn)。正性光刻膠比負(fù)性的精度要高,負(fù)膠顯影后圖形有漲縮,負(fù)性膠限制在2~3μm。


PC6-16000

NR9-3000PY 相對(duì)于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢(shì):

- 優(yōu)異的分辨率性能

- 快速地顯影

- 可以通過(guò)調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度

- 耐受溫度100℃

- 室溫儲(chǔ)存保質(zhì)期長(zhǎng)達(dá)3 年

NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR9-6000PY 5.0μm -

12.2μm  

Resist Thickness

NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR71-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR71-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR71-6000PY 5.0μm - 12.2μm



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