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發(fā)布時間:2020-07-23 17:25  






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真空鍍膜之多弧離子鍍 :

電弧電流一般為幾安至幾百安,工作電壓為10-25V,這時陰極表面的全部電流集中在一個或多個很小的部位 , 形成明亮的陰極弧斑 , 陰極弧斑的直徑為0.01-100um, 并以高達(dá)100m/s的速度在陰極靶表面隨機(jī)運(yùn)動 , 也可以利用磁場控制陰極弧斑的運(yùn)動。在陰極弧斑的前方是高密度的金屬等離子體, 由于電子向陽極快速移動而使陰極斑點(diǎn)前方出現(xiàn)離子堆積即形成正空間電荷 , 從而在陰極附近形成極強(qiáng)的電場, 導(dǎo)致場電子發(fā)射以維持弧光放電。比如含有j基(Me化學(xué)式-CH3)的化合物,因成分中含有碳?xì)浠鶊F(tuán),都屬于有機(jī)類物質(zhì)。

物理l氣相沉積(真空鍍膜)基本方法 :

1、從沉積粒子能量(中性原子)來看,真空蒸鍍?yōu)?.1-1eV,濺射為1-10eV,離子鍍?yōu)?.1-1eV(此外還有高能中性原子)。

2、從沉積速率來看,真空蒸鍍?yōu)?.1-70μm/min,濺射為0.01-0.05μm/min(磁控濺射接近于真空蒸鍍),離子鍍?yōu)?.1-50μm/min。

物理q相沉積法真空鍍膜技術(shù)(由于這種方法基本上都是處于真空環(huán)境下進(jìn)行的,因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g(shù))。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù),是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。

真空鍍膜技術(shù)是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使金屬蒸發(fā)或升華,金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。


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