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發(fā)布時(shí)間:2020-10-19 19:53  






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從鍍膜的原理及特點(diǎn)看,真空蒸鍍工件不帶電,真空條件下金屬加熱蒸發(fā)沉積到工件表面,沉積粒子的能量與蒸發(fā)時(shí)的溫度對應(yīng)。下面說一下陰極真空磁控濺射法,通過磁控濺射,在優(yōu)質(zhì)浮法玻璃的表面鍍一層或多層金屬、或金屬化合物薄膜。濺射的工件為陽極,靶為陰極,利用原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表面上,沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。離子鍍的工件為陰極,蒸發(fā)源為陽極,進(jìn)入輝光放電空間的金屬原子離子化后奔向工件,并在工件表面沉積成膜,沉積過程中離子對基片表面、膜層與基片的界面以及膜層本身都發(fā)生轟擊作用,粒子的能量決定于陰極上所加的電壓。


物理q相沉積法真空鍍膜技術(shù)(由于這種方法基本上都是處于真空環(huán)境下進(jìn)行的,因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g(shù))。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù),是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。

真空鍍膜技術(shù)是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使金屬蒸發(fā)或升華,金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。

真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

真空蒸鍍是將沉積材料與工件同放在真空室中,然后加熱沉積材料使之迅速熔化蒸發(fā),當(dāng)蒸發(fā)原子與冷工件表面接觸后便在工件表面上凝結(jié)形成具有一定厚度的沉積層日。


電子束蒸發(fā)源的優(yōu)點(diǎn)為:①電子束轟擊熱源的束流密度高,能獲得遠(yuǎn)比電阻加熱源更大的能量密度。可以使高熔點(diǎn)(可高達(dá)3000°C以上)材料蒸發(fā),并且能有較高的蒸發(fā)速度;②由于被蒸發(fā)材料是置于水冷堆鍋內(nèi),因而可避免容器材料的蒸發(fā),以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應(yīng),這對提高鍍膜的純度極為重要;鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響:金屬過渡層:過渡層能有效的減小膜-基或不同鍍層間因材料熱膨脹系數(shù)等物理性能不同而形成的應(yīng)力,提高結(jié)合力,但是金屬過渡層太厚容易引起基體軟化,結(jié)合力反而會變差。③熱量可直接加到蒸鍍材料的表面,因而熱,熱傳導(dǎo)和熱輻射的損失少。



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