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真空鍍膜之多弧離子鍍 ：

多弧離子鍍又稱電弧離子鍍或陰極離子鍍是以鍍膜材料為陰極,陽極和真空室相連,陰極和陽極分別接到低壓大電流直流電源的負極和正極。蒸鍍時由于放電,在陰極表面上出現(xiàn)明亮的弧斑, 從而使陰極材料蒸發(fā)并電離, 形成金屬等離子體。引弧電極與陰極靶表面接觸和離開的瞬間,陰極和陽極之間形成穩(wěn)定的自持弧光放電。它是離子濺射鍍膜的基礎(chǔ)，即離子濺射鍍膜中的入射離子一般利用氣體放電法得到。

部分離子對陰極的轟擊又使陰極斑點局部快速蒸發(fā)并在空間迅速離化,使這些陰極弧斑點變成微小蒸發(fā)源,這些微小蒸發(fā)源在磁場和屏蔽絕緣的作用下束縛在陰極靶面做無規(guī)則運動,從而形成大面積均勻的蒸發(fā)源,噴發(fā)出電子、離子、熔融的金屬材料和原子。大部分是離子和熔融粒子,在偏壓作用下,離子流在基體上凝聚成金屬、合金或化合物薄膜。ya氣越少，靶材濺射量越少，但真空度越高,氣體分子自由程越大，散射越少，粒子碰撞幾率越小，粒子遷移過程中損失的動量越少，沉積速率越大。

光學(xué)薄膜應(yīng)用反應(yīng)磁控濺射技術(shù)已有多年，中頻閉合場非平衡磁控濺射技術(shù)也已在光學(xué)薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。特別是透明導(dǎo)電玻璃目前廣泛應(yīng)用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等。

有機鍍膜與無機鍍膜的根本區(qū)別

有機物王要指含有碳、氫兩種元素的化合物，容易氧化、可燃燒、會降解。有機物的熔點較低，一般不超過400℃，熱穩(wěn)定性差，容易受熱分解。比如含有j基（Me化學(xué)式-CH3)的化合物，因成分中含有碳氫基團，都屬于有機類物質(zhì)。無機物指不含碳元素的純凈物，其特點：1。一般不含碳元素2。分子較小3。通常不可燃燒。如二氧化硅（SiO2），中文別名r石英砂，屬于無機物。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續(xù)于整個鍍膜過程。二氧化硅Sio2的熔點、沸點較高（熔點1723℃，沸點2230℃）。