真空鍍膜定義真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。顧名思義真空鍍膜是在真空狀態(tài)下，一般指空氣壓強在10-1～l0-4Pa 范圍，形成的薄膜層一般在l0 微米左右厚度。

陽極氧化：應用于金屬反光杯。有效反光率不到真空鍍鋁的一半。優(yōu)點是不怕紫外線、紅外線的損害，甚至可以用水清洗。

鍍層與鍍膜的基本原理

A、原材料與基本原理：

　　原材料都是樹脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、、硅酸鹽等，輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑，不同的量相調(diào)和，乳化出來的狀態(tài)就不一樣，水狀、乳狀、膏狀都可以實現(xiàn)。這些物質(zhì)經(jīng)乳化破乳后，部份滲透或形成薄膜。

B、它們的特點和區(qū)別：

　　鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒大小)，表面光滑度更優(yōu)，對漆面較多“毛細孔”、粗糙、重噴過漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車系漆面比較適用。

　　鍍膜：而鍍膜產(chǎn)品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠家使其瞬間成膜，性質(zhì)相應的發(fā)生了改變。例如硬度比封釉更高，對需要提升漆面硬度的漆面(如日韓車系)比較適用。

從鍍膜的原理及特點看，真空蒸鍍工件不帶電，真空條件下金屬加熱蒸發(fā)沉積到工件表面，沉積粒子的能量與蒸發(fā)時的溫度對應。濺射的工件為陽極，靶為陰極，利用原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表面上，沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。離子鍍的工件為陰極，蒸發(fā)源為陽極，進入輝光放電空間的金屬原子離子化后奔向工件，并在工件表面沉積成膜，沉積過程中離子對基片表面、膜層與基片的界面以及膜層本身都發(fā)生轟擊作用，粒子的能量決定于陰極上所加的電壓。

真空鍍膜基本方法 ：

從被沉積物質(zhì)的氣化方式看，真空蒸鍍?yōu)殡娮杓訜?、電子束加熱、感應加熱、激光加熱等；濺射的鍍料原子不是靠加熱方式蒸發(fā)，而是靠陰極濺射由靶材獲得沉積原子；離子鍍可以分為蒸發(fā)式或者濺射式，蒸發(fā)式為電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、激光加熱等，濺射式由進入輝光放電空間的原子由氣體提供，反應物沉積在基片上。