真空鍍膜定義真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。顧名思義真空鍍膜是在真空狀態(tài)下，一般指空氣壓強在10-1～l0-4Pa 范圍，形成的薄膜層一般在l0 微米左右厚度。

陽極氧化：應用于金屬反光杯。有效反光率不到真空鍍鋁的一半。優(yōu)點是不怕紫外線、紅外線的損害，甚至可以用水清洗。

光學反光杯表面鍍膜工藝流程

以塑料反光杯為例，真空鍍膜大致需要以下步驟：1.  注塑工件經過靜電除塵后上架。

2.  上架后放入真空鍍膜機內抽真空。

3.  當真空抽至接近真空狀態(tài)，再對產品進行轟擊除去產品表面的微粒，以達到產品表面的光潔，此次轟擊保證產品與真空鋁膜牢固附著。

4.  轟擊完成后，繼續(xù)抽真空，再進行放電熔鋁，再將熔化的鋁膜蒸發(fā)至產品表面（此時產品表面已經均勻附著了一層明亮如鏡的鋁膜）。

5.  將硅油放入真空鍍膜腔中，進行等離子轟擊，使其變性，形成氧化硅，二氧化硅保護層。

6.  沖完硅油后，再以直流電對附著在產品上面的硅油進行離化處理，經過產品表面硅油完全固化，保證鋁膜能長時間不被氧化。

7.  離化完成后，充氣開門，產品下架包裝完成，真空鍍膜就完成了。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜技術具有下列優(yōu)點：

(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。

(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。

真空鍍膜的效果是什么呢？

1、增加鍍層與基材表面的附著力。

2、封閉基材內的殘留物，確保鍍膜質量　　

通過涂層來封閉基材內的殘留物、腐蝕性氣體殘留及脫模劑潤滑劑等油脂性分子殘留，防止真空鍍膜時或工件使用過程中基材中的這些揮發(fā)性雜質溢出，影響鍍膜質量。

3、提高基材表面平整度，確保鏡面鍍膜效果

得到理想的鏡面反射效果?？商钇交谋砻娴娜毕莶⒌玫嚼硐氲恼婵斟兡そ饘俟鉂尚Ч?。