PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的具體原理是在真空條件下使用低壓，大電流電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使目標(biāo)材料蒸發(fā)并使氣化的物質(zhì)和氣體電離，并利用電場(chǎng)加速功能，將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD涂膜層的特性，采用PVD涂膜技術(shù)鍍膜的膜層具有高硬度，高耐磨性（摩擦因數(shù)），良好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性的特點(diǎn)，并且該膜具有更長(zhǎng)的壽命。同時(shí)，薄膜可以大大改善工件的外觀和裝飾性能。可通過(guò)PVD涂層電鍍的薄膜類型，PVD涂層技術(shù)是一種環(huán)保的表面處理方法，可以真正獲得微米級(jí)涂層而無(wú)污染。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

在ji小空間的電流密度極高，弧斑尺寸ji小，估計(jì)約為1μm～100μm，電流密度高達(dá)l05A／cm2～107A／cm2。每個(gè)弧斑存在極短時(shí)間，爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點(diǎn)處的鍍料，蒸發(fā)離化后的金屬離子，在陰極表面也會(huì)產(chǎn)生新的弧斑，許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失，所以又稱多弧蒸發(fā)。zui早設(shè)計(jì)的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源，是在陰極背后配置磁場(chǎng)，使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應(yīng)，有利于離子增大能量轟擊量體，采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜，離化率較高，所以又稱為電弧等離子體鍍膜。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

壓鑄模具涂層的處理工藝。3.在鎖具行業(yè)應(yīng)用PVD鍍膜技術(shù)在鎖具行業(yè)基材上做表面改性裝飾與耐用效果。水電鍍無(wú)法做到的，真空技術(shù)幾乎都可以實(shí)現(xiàn)各種顏色效果，環(huán)保工藝。而且鎖具加工真空鍍膜技術(shù)加工在整體顯得高gui大氣，讓人類生活多姿多彩。4.在手機(jī)外殼/中框及配件手機(jī)外殼與及中框、攝像頭保護(hù)圈，手機(jī)ka槽，音量按鍵，電源開關(guān)鍵等裝飾件在不銹鋼基材上采用真空PVD鍍膜技術(shù)，加強(qiáng)使用耐磨硬度和顏色多種選擇。5.不銹鋼餐具在真空PVD鍍膜技術(shù)效果不銹鋼餐具選用真空PVD鍍膜技術(shù)無(wú)形增加產(chǎn)品很多買點(diǎn)和利潤(rùn)空間，餐具的選擇品種也隨之而多。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

薄膜的成膜過(guò)程，是一個(gè)物質(zhì)形態(tài)的轉(zhuǎn)變過(guò)程，不可避免地在成膜后的膜層中會(huì)有應(yīng)力存在，對(duì)于多層膜來(lái)說(shuō)有不同膜料的組合，各膜層體現(xiàn)出的應(yīng)力是有所不同的，有的是張應(yīng)力、有的是壓應(yīng)力，還有膜層及基片的熱應(yīng)力。

應(yīng)力的存在對(duì)膜強(qiáng)度是有害的，輕者是膜層耐不住摩擦，重者，造成膜層的龜裂或網(wǎng)狀細(xì)道子。

對(duì)于減反膜，由于層數(shù)不多，應(yīng)力一般體現(xiàn)不明顯，（但有些硝材的鏡片即便是減反膜也有應(yīng)力問(wèn)題存在。）而層數(shù)較多的高反膜、濾光膜，應(yīng)力是一個(gè)常見的不良因素，應(yīng)特別注意。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制